技術(shù)編號(hào)：12922508
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種適用于改善半導(dǎo)體擴(kuò)散爐外點(diǎn)火裝置與爐管之間的密封的裝置，屬于集成電路或分立器件圓片制造技術(shù)領(lǐng)域。背景技術(shù)半導(dǎo)體晶圓制造過程中，普遍采用高溫?cái)U(kuò)散工藝。隨著產(chǎn)品質(zhì)量要求的提高，氣體流量的穩(wěn)定性直接影響整個(gè)擴(kuò)散系統(tǒng)的氣氛，而摻雜穩(wěn)定性、氧化膜厚穩(wěn)定性等造成的細(xì)微影響，都會(huì)影響到晶圓的成品質(zhì)量。擴(kuò)散系統(tǒng)是在高溫環(huán)境中將需要的雜質(zhì)向硅片內(nèi)部推進(jìn)，在這種情況下有益雜質(zhì)和有害雜質(zhì)同時(shí)擴(kuò)散，所以對(duì)擴(kuò)散系統(tǒng)潔凈度及氣體穩(wěn)定性都有非常高的要求，而擴(kuò)散爐外點(diǎn)火小爐體與爐管之間連接的密封性的優(yōu)劣，一方...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。