技術(shù)編號(hào)：12907385
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明實(shí)施例涉及用于制造集成電路(IC)的方法，以及特別涉及用于包括具有變化的圖案間距的鄰接區(qū)塊的集成電路布局的芯軸以及間隔技術(shù)。背景技術(shù)半導(dǎo)體集成電路(IC)工業(yè)經(jīng)歷了快速成長(zhǎng)。集成電路材料以及設(shè)計(jì)的技術(shù)進(jìn)步產(chǎn)生了數(shù)代的集成電路，其中每一代具有比前一代更小以及更復(fù)雜的電路。這種縮小過(guò)程通常通過(guò)提高生產(chǎn)效率以及降低相關(guān)成本以提供利益。這種縮小過(guò)程也增加集成電路處理以及制造的復(fù)雜性。舉例來(lái)說(shuō)，當(dāng)制造鰭式場(chǎng)效晶體管(FinFET)裝置時(shí)，通常使用間隔技術(shù)以加倍曝光的圖案。即最終圖案的間距減小至僅為第...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。