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用于處理基板的裝置和方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):12907368

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本公開涉及一種用于處理基板的裝置和方法。背景技術(shù)通常,在半導(dǎo)體器件的制造方法中,在諸如硅晶片的基板上執(zhí)行諸如光刻工藝、蝕刻工藝、離子注入工藝和沉積工藝等各種工藝。并且,當(dāng)執(zhí)行每種工藝時(shí),均產(chǎn)生像粒子、有機(jī)污染物、金屬雜質(zhì)等的各種物質(zhì)。這些物質(zhì)導(dǎo)致基板中出現(xiàn)缺陷,并影響半導(dǎo)體器件的性能和良品率,因而需要清洗工藝來(lái)去除這些物質(zhì)。清洗工藝包括去除基板中污染物的化學(xué)處理工藝、使用純水去除殘留在基板上的化學(xué)物質(zhì)的濕法清洗工藝,以及通過(guò)提供干燥流體來(lái)干燥殘留在基板上的純水的干燥工藝。以前,通過(guò)將氮?dú)夤?yīng)至殘...
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