技術(shù)編號(hào)：12820081
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明有關(guān)于一種節(jié)流閥，特別是有關(guān)于一種可防止微粒污染的節(jié)流閥。背景技術(shù)在一氣相沉積制程中，沉積層被沉積于半導(dǎo)體晶圓(或基材)之上，通常包括加熱該基材，并將該基材夾持，以使該基材相距于沉積氣體(制程氣體)的供應(yīng)源維持一短的距離，沉積氣體(制程氣體)朝該基材流動(dòng)。該沉積氣體氣流產(chǎn)生反應(yīng)，并于該被加熱的基材上形成一沉積層。在腔室和真空泵之間的真空管路上的某些點(diǎn)，真空截止閥或節(jié)流閥通常被提供，在關(guān)閉時(shí)為處理室提供限制。揮發(fā)性污染物在反應(yīng)腔室中的高溫下維持在汽態(tài)，會(huì)不被期望的凝結(jié)在冷卻的真空管路內(nèi)壁之上...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。