本發(fā)明有關(guān)于一種節(jié)流閥，特別是有關(guān)于一種可防止微粒污染的節(jié)流閥。

背景技術(shù)：

在一氣相沉積制程中，沉積層被沉積于半導(dǎo)體晶圓(或基材)之上，通常包括加熱該基材，并將該基材夾持，以使該基材相距于沉積氣體(制程氣體)的供應(yīng)源維持一短的距離，沉積氣體(制程氣體)朝該基材流動(dòng)。該沉積氣體氣流產(chǎn)生反應(yīng)，并于該被加熱的基材上形成一沉積層。

在腔室和真空泵之間的真空管路上的某些點(diǎn)，真空截止閥或節(jié)流閥通常被提供，在關(guān)閉時(shí)為處理室提供限制。揮發(fā)性污染物在反應(yīng)腔室中的高溫下維持在汽態(tài)，會(huì)不被期望的凝結(jié)在冷卻的真空管路內(nèi)壁之上，與反應(yīng)腔室的反應(yīng)區(qū)之間存在一些距離，但仍在由真空閥所定義的制程腔室的容納限制之內(nèi)。在沒有氣流的情況下，這些污染物會(huì)回到腔室的反應(yīng)區(qū)域之中，并造成不被期望的污染。為了試圖避免這個(gè)問題，制程腔室的容納限度內(nèi)的內(nèi)表面定期通過蝕刻(和/或等離子體清潔)等方式清潔，通過一清潔氣體以移除由沉積氣體所沉積的介電材料。

然而，節(jié)流閥受限于其結(jié)構(gòu)上的設(shè)計(jì)，污染物會(huì)沉積于節(jié)流閥的內(nèi)部零件之上，并影響節(jié)流閥的氣流控制效果。由于節(jié)流閥一般是以步進(jìn)馬達(dá)進(jìn)行控制，當(dāng)污染物沉積于節(jié)流閥的內(nèi)部零件之上時(shí)，步進(jìn)馬達(dá)會(huì)反復(fù)調(diào)整節(jié)流閥開度，因而影響反應(yīng)室的壓力，并減少了節(jié)流閥的壽命。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明是為了解決現(xiàn)有技術(shù)的問題而提供的一種節(jié)流閥，包括一節(jié)流閥本體、一閥桿、一密封墊以及一第一刮刀。一流道形成于該節(jié)流閥本體之中。閥桿設(shè)于該節(jié)流閥本體之中，其中，該閥桿上形成有一缺口，當(dāng)旋轉(zhuǎn)該閥桿時(shí)，該缺口的位置被調(diào)整，該流道的開度大小被調(diào)整。密封墊設(shè)于該節(jié)流閥本體之中，該密封墊上形成有一抵接 部，該抵接部以能密封的方式抵接該閥桿。第一刮刀設(shè)于該閥桿之上，當(dāng)該閥桿旋轉(zhuǎn)時(shí)，該第一刮刀接觸該抵接部，并對(duì)該抵接部進(jìn)行清潔。

在一實(shí)施例中，該第一刮刀對(duì)應(yīng)該缺口。

在一實(shí)施例中，該第一刮刀與該閥桿的一對(duì)稱中心平面間的夾角為45度。

在一實(shí)施例中，該節(jié)流閥更包括一第二刮刀，該第二刮刀對(duì)應(yīng)該缺口，該第二刮刀與該第一刮刀對(duì)稱于該閥桿的一對(duì)稱中心平面。

在一實(shí)施例中，該第一刮刀與該閥桿的該對(duì)稱中心平面間的夾角為45度，該第二刮刀與該閥桿的該對(duì)稱中心平面間的夾角為-45度。

在一實(shí)施例中，該第一刮刀為金屬絲。

在一實(shí)施例中，該第一刮刀的兩端嵌設(shè)于該閥桿之上并位于該缺口的兩側(cè)。

在一實(shí)施例中，該第一刮刀的延伸方向平行于該閥桿的一中軸方向。

在一實(shí)施例中，該節(jié)流閥本體包括一進(jìn)氣口以及一出氣口，該進(jìn)氣口與該出氣口位于同一直線之上，該密封墊位于該出氣口與該閥桿之間。

在一實(shí)施例中，該節(jié)流閥本體包括一本體內(nèi)壁，當(dāng)該閥桿旋轉(zhuǎn)時(shí)，該第一刮刀接觸該本體內(nèi)壁，并對(duì)該本體內(nèi)壁進(jìn)行清潔。

應(yīng)用本發(fā)明實(shí)施例的節(jié)流閥，由于使用第一刮刀對(duì)密封墊及節(jié)流閥本體的本體內(nèi)壁進(jìn)行清潔，因此，微粒不會(huì)沉積于密封墊及本體內(nèi)壁之上。節(jié)流閥的內(nèi)部流道不再會(huì)因?yàn)槲⒘３练e阻塞，因而可減少反復(fù)調(diào)整節(jié)流閥開度的情況。因此可提供穩(wěn)定的反應(yīng)室壓力，并提高節(jié)流閥的壽命。

附圖說明

以下附圖僅旨在于對(duì)本發(fā)明做示意性說明和解釋，并不限定本發(fā)明的范圍。其中，

圖1顯示本發(fā)明第一實(shí)施例的節(jié)流閥。

圖2a顯示本發(fā)明第一實(shí)施例的第一刮刀的放大結(jié)構(gòu)。

圖2b顯示本發(fā)明第一實(shí)施例的第一刮刀的詳細(xì)位置。

圖3顯示本發(fā)明第二實(shí)施例的節(jié)流閥。

圖4a顯示本發(fā)明第二實(shí)施例的第一刮刀、第二刮刀的放大結(jié)構(gòu)。

圖4b顯示本發(fā)明第二實(shí)施例的第一刮刀、第二刮刀的詳細(xì)位置。

附圖標(biāo)號(hào)說明：

1、2～節(jié)流閥；

10～第一連接組件；

11～o型環(huán)；

12～密封墊；

13～抵接部；

14～o型環(huán)；

20～第二連接組件；

21～o型環(huán)；

22～密封墊；

23～抵接部；

24～o型環(huán)；

30～節(jié)流閥本體；

31～進(jìn)氣口；

32～底蓋；

33～出氣口；

40～閥桿單元；

41～閥桿；

42～缺口；

51～第一刮刀；

52～第二刮刀；

a～中軸方向；

s～對(duì)稱中心平面；

θ1、θ2～夾角。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明所運(yùn)用的技術(shù)內(nèi)容、目的及其達(dá)成的功效有更完整且清楚的揭露，現(xiàn)對(duì)照附圖說明本發(fā)明的具體實(shí)施方式：

參照?qǐng)D1，其顯示本發(fā)明第一實(shí)施例的節(jié)流閥1，包括一第一連接組件10、一第二連接組件20、一節(jié)流閥本體30、一閥桿單元40以及一第一刮刀51。第一連接組 件10包括一o型環(huán)11、一密封墊12以及一o型環(huán)14。第二連接組件20包括一o型環(huán)21、一密封墊22以及一o型環(huán)24。節(jié)流閥本體30包括一進(jìn)氣口31。該閥桿單元40包括一閥桿41，一缺口42形成于該閥桿41。節(jié)流閥本體30包括底蓋32，底蓋32上形成有一出氣口33。第一刮刀51設(shè)于該閥桿41之上。

參照?qǐng)D1，一流道形成于該節(jié)流閥本體30之中(從該進(jìn)氣口31至該出氣口33)。在此實(shí)施例中，該流道為直線形，該進(jìn)氣口31與該出氣口33位于同一直線之上。閥桿41設(shè)于該節(jié)流閥本體30之中，其中，通過旋轉(zhuǎn)該閥桿41，缺口42的位置被調(diào)整，該流道的開度大小因此被調(diào)整。o型環(huán)11設(shè)于該密封墊12與一外部管路(未顯示)之間。o型環(huán)14設(shè)于該節(jié)流閥本體30與該外部管路(未顯示)之間。o型環(huán)21設(shè)于該密封墊22與該底蓋32之間，o型環(huán)24設(shè)于該節(jié)流閥本體30與該底蓋32之間。

參照?qǐng)D1，密封墊12具有凹凸形狀的抵接部13，抵接部13以可密封的方式抵接該閥桿41。密封墊22具有凹凸形狀的抵接部23，抵接部23以可密封的方式抵接該閥桿41。在此實(shí)施例中，抵接部23具有一定程度的面積，當(dāng)該閥桿41旋轉(zhuǎn)時(shí)，該第一刮刀51接觸該抵接部23，并對(duì)該抵接部23進(jìn)行清潔。密封墊22設(shè)于該節(jié)流閥本體30之中，且密封墊22位于該出氣口33與該閥桿41之間。

參照?qǐng)D2a，該第一刮刀51對(duì)應(yīng)該缺口42。參照?qǐng)D2b，該第一刮刀51與該閥桿41的一對(duì)稱中心平面s間的夾角θ1為45度。

參照?qǐng)D2a，在此實(shí)施例中，該第一刮刀51為金屬絲。該第一刮刀51的兩端嵌設(shè)于該閥桿41之上并位于該缺口42的兩側(cè)，換言之，該第一刮刀51橫跨該缺口42。該第一刮刀51的延伸方向平行于該閥桿41的一中軸方向a。

在一實(shí)施例中，該節(jié)流閥本體30包括一本體內(nèi)壁(未顯示)，當(dāng)該閥桿旋轉(zhuǎn)時(shí)，該第一刮刀51接觸該本體內(nèi)壁，并對(duì)該本體內(nèi)壁進(jìn)行清潔。

應(yīng)用本發(fā)明第一實(shí)施例的節(jié)流閥，由于使用第一刮刀對(duì)密封墊及節(jié)流閥本體的本體內(nèi)壁進(jìn)行清潔，因此，微粒不會(huì)沉積于密封墊及本體內(nèi)壁之上。節(jié)流閥的內(nèi)部流道不再會(huì)因?yàn)槲⒘３练e阻塞，因而可減少反復(fù)調(diào)整節(jié)流閥開度的情況。因此可提供穩(wěn)定的反應(yīng)室壓力，并提高節(jié)流閥的壽命。

參照?qǐng)D3，其顯示本發(fā)明第二實(shí)施例的節(jié)流閥2，包括一第一連接組件10、一第二連接組件20、一節(jié)流閥本體30、一閥桿單元40、一第一刮刀51以及一第二刮刀52。第一連接組件10包括一o型環(huán)11、一密封墊12以及一o型環(huán)14。第二連接組 件20包括一o型環(huán)21、一密封墊22以及一o型環(huán)24。節(jié)流閥本體30包括一進(jìn)氣口31。該閥桿單元40包括一閥桿41，一缺口42形成于該閥桿41。節(jié)流閥本體30包括底蓋32，底蓋32上形成有一出氣口33。第一刮刀51設(shè)于該閥桿41之上。第二刮刀52設(shè)于該閥桿41之上。

參照?qǐng)D3，一流道形成于該節(jié)流閥本體30之中(從該進(jìn)氣口31至該出氣口33)。在此實(shí)施例中，該流道為直線形，該進(jìn)氣口31與該出氣口33位于同一直線之上。閥桿41設(shè)于該節(jié)流閥本體30之中，其中，通過旋轉(zhuǎn)該閥桿41，缺口42的位置被調(diào)整，該流道的開度大小因此被調(diào)整。o型環(huán)11設(shè)于該密封墊12與一外部管路(未顯示)之間。o型環(huán)14設(shè)于該節(jié)流閥本體30與該外部管路(未顯示)之間。o型環(huán)21設(shè)于該密封墊22與該底蓋32之間，o型環(huán)24設(shè)于該節(jié)流閥本體30與該底蓋32之間。

參照?qǐng)D3，密封墊12具有凹凸形狀的抵接部13，抵接部13以可密封的方式抵接該閥桿41。密封墊22具有凹凸形狀的抵接部23，抵接部23以可密封的方式抵接該閥桿41。在此實(shí)施例中，抵接部23具有一定程度的面積，當(dāng)該閥桿41旋轉(zhuǎn)時(shí)，該第一刮刀51以及該第二刮刀52接觸該抵接部23，并對(duì)該抵接部23進(jìn)行清潔。

參照?qǐng)D4a，該第一刮刀51對(duì)應(yīng)該缺口42，該第二刮刀52對(duì)應(yīng)該缺口42。參照?qǐng)D4b，該第一刮刀51與該閥桿41的一對(duì)稱中心平面s間的夾角θ1為45度，該第二刮刀52與該閥桿41的該對(duì)稱中心平面s間的夾角θ2為-45度。換言之，該第二刮刀52與該第一刮刀51對(duì)稱于該閥桿41的該對(duì)稱中心平面s。

參照?qǐng)D4a，在此實(shí)施例中，該第一刮刀51為金屬絲，該第二刮刀52為金屬絲。該第一刮刀51的兩端嵌設(shè)于該閥桿41之上并位于該缺口42的兩側(cè)，該第二刮刀52的兩端嵌設(shè)于該閥桿41之上并位于該缺口42的兩側(cè)，換言之，該第一刮刀51與該第二刮刀52均橫跨該缺口42。該第一刮刀51及該第二刮刀52的延伸方向平行于該閥桿41的一中軸方向a。

同第一實(shí)施例所述，在一實(shí)施例中，該節(jié)流閥本體30包括一本體內(nèi)壁(未顯示)，當(dāng)該閥桿旋轉(zhuǎn)時(shí)，該第一刮刀51及該第二刮刀52接觸該本體內(nèi)壁，并對(duì)該本體內(nèi)壁進(jìn)行清潔。

應(yīng)用本發(fā)明第二實(shí)施例的節(jié)流閥，更增加使用了第二刮刀對(duì)密封墊及節(jié)流閥本體的本體內(nèi)壁進(jìn)行清潔，可避免因?yàn)楣疃斐傻牡谝还蔚肚鍧嵅粡氐椎那闆r。因此，微粒不會(huì)沉積于密封墊及本體內(nèi)壁之上。節(jié)流閥的內(nèi)部流道不再會(huì)因?yàn)槲⒘３练e阻 塞，因而可減少反復(fù)調(diào)整節(jié)流閥開度的情況。因此可提供穩(wěn)定的反應(yīng)室壓力，并提高節(jié)流閥的壽命。

雖然本發(fā)明已以具體的較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此項(xiàng)技術(shù)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，仍可作些許的更動(dòng)與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求范圍所界定為準(zhǔn)。