技術編號：12817427
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及顯示器制造工藝技術領域，尤其是指一種磁控濺射裝置、設備及磁控濺射方法。背景技術磁控濺射是物理氣相沉積(PhysicalVaporDeposition，PVD)的一種，一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多種材料，例如顯示器制造中的金屬薄膜沉積則正是采用磁控濺射工藝實現(xiàn)的其中一種實施例，采用該工藝具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。磁控濺射根據(jù)工藝上的不同包括多個種類，但通常工作原理為：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶材表面附近成螺旋狀運行，以增大電子撞擊氬氣...
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