技術(shù)編號：12807085
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及顯示器技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種OLED顯示面板及其制備方法。背景技術(shù)第二接觸孔(CT2)是低溫多晶硅((LowTemperaturePolySilicon，簡稱LTPS)中一項(xiàng)重要的制程，CT2的導(dǎo)入會導(dǎo)致生產(chǎn)成本的增加，CT2光罩的設(shè)計(jì)和制作需要人力和資金的投入，而黃光和蝕刻工序的導(dǎo)入，也會增加生產(chǎn)間接材料的使用量，這對于大規(guī)模生產(chǎn)是不利的。近年來，第二接觸孔(CT2)的蝕刻工藝，是在SP(Spacer，源漏極層)層之后上光阻并用CT2的光罩進(jìn)行曝光顯影，再使用濕法(WET)+干法(D...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。