技術(shù)編號：12780033
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種微調(diào)系統(tǒng)以及空間光調(diào)制器微調(diào)系統(tǒng)。背景技術(shù)光刻技術(shù)是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基片上的技術(shù)。光刻技術(shù)用于在基底表面上印刷具有特征的構(gòu)圖的技術(shù)。這樣的基底可包括用于制造半導(dǎo)體器件、多種集成電路、平面顯示器(例如液晶顯示器)、電路板、生物芯片、微機械電子芯片、光電子線路芯片等芯片。在直寫式光刻機的光刻系統(tǒng)中，特征圖形由空間光調(diào)制器微鏡陣列產(chǎn)生，這些微小鏡面可以獨立尋址單獨受控以不同的傾斜方向反射照射的光束，以產(chǎn)生空間光強調(diào)制，然后將...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。