技術(shù)編號：12731335
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。使用光學(xué)投影的基板調(diào)整系統(tǒng)和方法相關(guān)申請的交叉引用本申請要求于2015年12月18日提交的標(biāo)題為“SubstrateTuningSystemandMethodUsingOpticalProjection”的美國專利申請第14/974,974號的權(quán)益，其全部內(nèi)容通過引用并入本文中。背景技術(shù)本公開內(nèi)容總體上涉及包括半導(dǎo)體基板(例如硅晶片)的基板的圖案化。本公開內(nèi)容還涉及與作為半導(dǎo)體裝置制造的一部分的包括在基板上涂覆膜和對膜進(jìn)行顯影的光刻有關(guān)的過程。本公開內(nèi)容特別地涉及作為光刻和圖案化過程的一部分的對...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。