技術(shù)編號(hào)：12514162
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于制造晶體材料的層的方法。由此制造的晶體材料的層可用于制造半導(dǎo)體器件，例如光伏器件。本文還描述了一種制造半導(dǎo)體器件的方法。本發(fā)明的工作獲得了歐盟第七框架計(jì)劃下之歐洲研究理事會(huì)(FP7/2007-2013)/ERC撥款協(xié)議第279881號(hào)提供的資助。背景技術(shù)晶體材料的層和薄膜在包括上釉工業(yè)、電子工業(yè)和光伏工業(yè)的許多應(yīng)用中很重要。常常重要的是上述層是光滑的且沒有孔或缺陷。此外，希望能夠快速容易且以最小花費(fèi)制造上述層。層和薄膜通常通過氣相沉積或溶液沉積制造。這兩種方法都具有固有的困難。...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。