技術(shù)編號:12503052
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及氣體凈化技術(shù)領(lǐng)域,更具體地說,涉及一種廢氣處理裝置。背景技術(shù)在半導(dǎo)體、面板顯示器、LED、太陽能和MEMS微機(jī)電等制造領(lǐng)域中,生產(chǎn)過程中都會產(chǎn)生廢氣,以半導(dǎo)體制造為例,其制程設(shè)備在生產(chǎn)時排放的氣體可以分為如下三類:第一類是易燃易爆氣體,如氫氣(H2)或硅烷(SiH4);第二類是有毒氣體,如一氧化二氮(N2O)、氯氣(Cl2)、氟氣(F2);第三類是溫室效應(yīng)氣體,如四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、六氟化硫(SF6)等等,其中三氟化氮(NF3)也具有毒性,四氟化碳(CF4)也在...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。