技術編號：12498211
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及一種蒸鍍裝置，特別是涉及一種對蒸鍍源進行加熱并使其蒸鍍到基板上而形成薄膜的蒸鍍裝置。背景技術已知的蒸鍍裝置包含一個腔體，及分別安裝在該腔體內(nèi)的一個加熱模塊及一個供料模塊。進行蒸鍍前，將一個待蒸鍍的基板傳送至該腔體內(nèi)，再將欲蒸鍍的蒸鍍源放置于該加熱模塊及該供料模塊內(nèi)，并將該腔體抽氣到一個可鍍膜的真空狀態(tài)。蒸鍍時，該加熱模塊將該蒸鍍源加熱至氣態(tài)并蒸發(fā)，且散布于該腔體內(nèi)，呈氣態(tài)的蒸鍍源材料會附著于該基板上并形成一層薄膜。而該供料模塊用于補充該蒸鍍源于該加熱模塊內(nèi)的存量，而使該加熱模塊可持...
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