技術(shù)編號：12473900
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及Mura量化系統(tǒng)與方法，并且更具體地說，涉及依靠激光結(jié)晶設(shè)施的Mura量化系統(tǒng)，用于通過在基板中量化Mura實時確定在激光結(jié)晶裝置中結(jié)晶的基板的質(zhì)量來提供穩(wěn)定的處理管理，以及依靠激光結(jié)晶設(shè)施的Mura量化方法。背景技術(shù)通常來說，需要使非晶態(tài)多晶薄膜結(jié)晶的處理，例如用于制造諸如液晶顯示器或太陽能裝置的電/電子裝置的非晶態(tài)硅薄膜。需要以預(yù)定能量發(fā)射激光以使非晶態(tài)硅薄膜結(jié)晶成晶體硅薄膜(為了方便起見在下文中將待結(jié)晶的薄膜稱作為“基板”)。在此處理中的能量的密度稱作能量密度(下文稱作為‘ED’...
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