技術(shù)編號：12450938
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及飛行時間質(zhì)譜儀離子源室，尤其是涉及質(zhì)譜儀離子源室抽真空系統(tǒng)。背景技術(shù)基質(zhì)輔助激光解析離子源是固態(tài)樣品解析過程，樣品靶槽內(nèi)的樣品通過進出樣機構(gòu)自離子源室的艙門處逐步進入真空環(huán)境，即：先進入由樣品靶槽與艙門圍成的低真空度（10-2mbar）區(qū)域（或稱之為小腔室），然后樣品隨樣品靶槽移動到離子源室內(nèi)高真空度（10-7mbar）區(qū)域。樣品靶槽由定位機構(gòu)定位后，進而樣品在一個特定的區(qū)域內(nèi)進行解析。因此，離子源室內(nèi)腔存在由低真空度向高真空度過渡的抽真空過程，而上述抽真空過程需要抽真空系統(tǒng)來實現(xiàn)...
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