技術(shù)編號：12395038
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及靶材制造技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種氧化鈮靶材及其制備方法。背景技術(shù)氧化鈮靶材是制備AR玻璃(減反增透玻璃)，ITO(氧化銦錫)玻璃的重要材料。另外，氧化鈮靶材也被廣泛用于太陽能電池、光學(xué)玻璃和手機觸屏等領(lǐng)域。目前氧化鈮靶材制備主要采用熱壓燒結(jié)工藝，然而制備出的氧化鈮靶材普遍存在致密性和導(dǎo)電性不佳的缺點，難以滿足直流磁控濺射法鍍膜對于靶材需求。此外熱壓燒結(jié)工藝的燒結(jié)時間長，能耗大，成本高。發(fā)明內(nèi)容基于此，有必要提供一種能耗小、成本低、致密性和導(dǎo)電性良好的氧化妮鈮靶材及其制備方法。一種氧化鈮...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。