技術(shù)編號(hào)：12214389
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種冷卻裝置，特備是一種RENA單晶制絨設(shè)備拋光工藝?yán)鋮s裝置。背景技術(shù)現(xiàn)有太陽(yáng)能電池高效單晶拋光設(shè)備，如RENA單晶制絨設(shè)備刻蝕槽，在進(jìn)行拋光工藝的過程中釋放大量熱，制程溫度需求為75±2度,制程時(shí)間在4min左右,制程循環(huán)時(shí)間在6.5min左右，硅片在制程過程中會(huì)產(chǎn)生放熱，且導(dǎo)致溫度上升：初始溫度為75度，當(dāng)?shù)谝粧旒芊湃牍杵磻?yīng)完成后溫度上升到78度左右;當(dāng)?shù)诙旒芊湃牍杵磻?yīng)完成后溫度同78上升到81度左右，已無(wú)法滿足工藝要求。由于沒有冷卻系統(tǒng)導(dǎo)致反應(yīng)液體溫度居高不下無(wú)法達(dá)到工...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。