技術(shù)編號：12180204
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于噴嘴制造領(lǐng)域，尤其涉及一種清洗液噴嘴。背景技術(shù)制造半導(dǎo)體元件或LCD,PDP,OLED等平板顯示元件時，通常需要反復(fù)執(zhí)行photoLithography工程等蝕刻工程。另外，進行photoLithography工程及蝕刻工程時必然會殘留蝕刻副產(chǎn)物等不純物質(zhì)。為了除掉此類蝕刻不純物，在半導(dǎo)體元件、平板顯示元件制造上必須進行清洗工程。一般清洗工程分為，利用清洗溶液的化學型清洗方法和利用機械設(shè)備的物理型清洗方法。將上述化學型清洗方法加以詳細說明的話，就是在所定清洗設(shè)備內(nèi)安裝半導(dǎo)體基板或玻璃基...
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