技術編號：12164372
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及用于包含式(I)交聯(lián)劑的本發(fā)明的微電子應用組合物的組合物，且確切地說，抗反射涂料組合物。本發(fā)明的優(yōu)選組合物與外涂布光致抗蝕劑組合物一起使用且可稱為底部抗反射組合物或“BARC”。背景技術光致抗蝕劑是用于將圖像轉移到襯底的感光膜。在襯底上形成光致抗蝕劑涂層并且隨后經(jīng)由光掩模使光致抗蝕劑層曝光于活化輻射源。在曝光之后，光致抗蝕劑被顯影，得到允許選擇性處理襯底的浮雕圖像。用于曝光光致抗蝕劑的活化輻射的反射通常對光致抗蝕劑層中圖案化的圖像的分辨率造成限制。來自襯底/光致抗蝕劑界面的輻射的反射可...
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