技術編號：12149935
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及太陽能利用技術領域，尤其與一種與多晶爐配套使用的坩堝噴涂臺有關。背景技術坩堝噴涂，是將氮化硅粉用純水調制成水劑，用壓縮空氣經(jīng)噴槍均勻噴涂在坩堝內表面，水分快速蒸發(fā)，留下氮化硅粉附著在坩堝內壁的一種工藝過程?，F(xiàn)有技術的一種與多晶爐配套的坩堝噴涂臺91，如圖1-圖3所示，其底部加熱部92和側壁加熱部93均由分塊小加熱板94組成，其整體尺寸小，使用過程中加熱慢，而且只適用40℃的低溫氮化硅粉，而對于工藝中可能用到高溫氮化硅粉，噴涂溫度在100℃左右的情形，則不能適用。并且，現(xiàn)有技術的坩堝...
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