技術編號：12110039
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明屬于光學薄膜特性改性研究領域，涉及一種提高離子束反應濺射法制備碳化鍺薄膜牢固度的方法。背景技術近年來，碳化鍺(Ge1-xCx)作為一種新型的紅外硬質保護薄膜材料，受到了廣泛關注。其具有其它硬質保護薄膜所不具備的優(yōu)良特性：1)與Ge、Si、ZnS等絕大部分紅外基底結合好；2)在較大波長范圍內具有較低的消光系數(shù)；3)其應力較小，機械特性良好；4)通過改變薄膜成份，可以使薄膜的折射率在2-4范圍內變化，同時可以直接使用不同折射率的Ge1-xCx薄膜制備復合紅外硬質保護薄膜。離子束反應濺射法是一種...
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