技術(shù)編號：12110026
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種高均勻度圖形化多點源陣列蒸發(fā)鍍膜裝置，適用于制作高均勻的點陣OLED顯示器件以及沉積高度均勻薄膜。背景技術(shù)有機電致發(fā)光器件(Organiclight-emittingdevice，OLED)被公認為下一代顯示領(lǐng)域的先鋒，OLED器件具有主動發(fā)光，面板發(fā)光，視角廣，響應時間短，發(fā)光效率高，色域?qū)挘ぷ麟妷旱?，器件厚度薄，可制成彎曲面板，制作工藝相對簡單，成本低等特性。OLED作為一種面光源，由于OLED發(fā)光接近自然光、綠色環(huán)保、可采用蒸鍍、旋涂、離子束濺射等簡單工藝制備并能夠沉積在柔...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。