技術(shù)編號：12099288
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種有機(jī)EL元件蒸發(fā)鍍膜熔爐裝置。背景技術(shù)真空鍍膜是將固體材料置于真空室內(nèi)，在真空條件下，將固體材料加熱蒸發(fā)，蒸發(fā)出來的原子或分子能自由地彌布到容器的器壁上。當(dāng)把一些加工好的基板材料放在其中時，蒸發(fā)出來的原子或分子就會吸附在基板上逐漸形成一層薄膜。真空鍍膜有兩種方法，一是蒸發(fā)鍍膜，一是濺射鍍膜。傳統(tǒng)的有機(jī)EL元件蒸發(fā)鍍膜是在真空腔內(nèi)完成，用于放置有機(jī)物的容器在熱源的作用下升溫，使得有機(jī)物蒸發(fā)從而完成鍍膜，但是如果有機(jī)物受熱不均勻，導(dǎo)致蒸發(fā)不均勻的話，EL元件的...
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