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一種半導體芯片用鎳銀腐蝕液的制作方法與工藝技術資料下載

技術編號:12029825

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本發(fā)明涉及半導體芯片用鎳銀腐蝕液,屬于微電子化學試劑技術領域。背景技術超凈高純試劑(Ultra-cleanandHigh-purityReagents)在國際上稱為工藝化學品(ProcessChemicals),是集成電路(IC)以及超大規(guī)模集成電路(VLSI)制作過程中的關鍵性基礎化工材料之一,主要用于芯片的清洗和腐蝕。超凈高純試劑的純度和潔凈度對集成電路的成品率、電性能及可靠性均有十分重要的影響。半導體晶體硅材質上連續(xù)鍍上鎳層、銀層后,再在銀層涂覆一定規(guī)格與大小的光刻膠進行保護,而光刻膠與光...
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