技術(shù)編號(hào)：11733339
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種X射線衍射的方法和裝置。背景技術(shù)X射線衍射是一種眾所周知的用于材料分析的技術(shù)。在許多情況下，不只是在樣品上的一個(gè)點(diǎn)處而是在樣品表面上的多個(gè)點(diǎn)處進(jìn)行材料分析是有用的。對(duì)于在整個(gè)表面上不是均勻晶體的樣品尤其如此。在這種情況下，進(jìn)行以非常小的點(diǎn)照射樣品的X射線衍射從而使在該點(diǎn)處能夠測(cè)量衍射通常是必要的。這產(chǎn)生了很多困難。所述點(diǎn)通常使用一個(gè)針孔或其它專用于微衍射的X射線光學(xué)器件來實(shí)現(xiàn)，這會(huì)導(dǎo)致很低的X射線強(qiáng)度。此外，為了使樣品的其它區(qū)域成像，有必要移動(dòng)所述樣品(或等同地移動(dòng)所述斑點(diǎn))，這需...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。