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一種反應(yīng)腔室和半導(dǎo)體設(shè)備的制造方法與工藝技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):11692061

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本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及反應(yīng)腔室和半導(dǎo)體設(shè)備。背景技術(shù)LED刻蝕機(jī)是LED光源生產(chǎn)過程中所需要的非常重要的設(shè)備,GaN基外延層或藍(lán)寶石襯底是刻蝕的主要對(duì)象,刻蝕的效果直接關(guān)系到光源芯片的質(zhì)量高低,進(jìn)而影響光源的質(zhì)量。同IC領(lǐng)域一樣,LED刻蝕機(jī)的組成包括傳輸和工藝兩個(gè)模塊,二者共同影響著刻蝕的效率或者說設(shè)備的產(chǎn)能,而刻蝕結(jié)果主要是工藝模塊決定的,工藝腔室的設(shè)計(jì)直接影響基片的刻蝕效果。如圖1所示,現(xiàn)有的一種LED刻蝕機(jī)反應(yīng)室里包括:腔室本體1、內(nèi)襯2、內(nèi)門4、內(nèi)門支撐桿5、卡盤7。腔...
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