技術(shù)編號(hào)：11671895
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及電池生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種鏤空載板自動(dòng)清洗平臺(tái)。背景技術(shù)PECVD系統(tǒng)是模塊化系統(tǒng)，在制備硅基異質(zhì)結(jié)電池時(shí)，將硅片制絨及清洗預(yù)處理之后，硅片通過上料機(jī)構(gòu)放置到載板上，進(jìn)入預(yù)熱腔室，然后完成n(或p)層沉積，之后通過具有冷卻功能的冷卻機(jī)構(gòu)進(jìn)入下料機(jī)構(gòu)，其中，硅片進(jìn)入PECVD系統(tǒng)反應(yīng)時(shí)是通過放在鏤空載板上來實(shí)現(xiàn)，因此載板有些部分會(huì)有硅的沉積，而載板從大氣進(jìn)入腔室，加熱到冷卻的這種循環(huán)很容易使在載板上的沉積硅剝落到各個(gè)腔室內(nèi)，造成沉積鈍化膜質(zhì)量的下降。因此需要定期對(duì)PECVD鏤...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。