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過(guò)電壓保護(hù)封裝結(jié)構(gòu)及其制作方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):11586584

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本發(fā)明涉及一種過(guò)電壓保護(hù)封裝結(jié)構(gòu)及其制作方法,尤指一種先設(shè)置一磷酸鹽系保護(hù)層于過(guò)電壓保護(hù)單元表面再形成一端電極單元于過(guò)電壓保護(hù)單元上之過(guò)電壓保護(hù)封裝結(jié)構(gòu)及其制作方法。背景技術(shù)首先,請(qǐng)參閱圖1至圖4所示,現(xiàn)有的過(guò)電壓保護(hù)封裝結(jié)構(gòu)Q之制作方法大部分會(huì)先在變組器本體V的兩端分別設(shè)置第一電極層C1(如圖2所示),接著,再于兩端的第一電極層C1之間設(shè)置一保護(hù)層P(如圖3所示),以避免變組器本體V于之后的電鍍制程中受到電鍍液的腐蝕。最后,再形成一包覆的一第一電極層C1的第二電極層C2(如圖4所示)。然而,現(xiàn)...
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