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半導體器件的制造方法與工藝技術資料下載

技術編號:11531158

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本發(fā)明涉及半導體器件,例如,是適用于具備SRAM電路(StaticRandomAccessMemory:靜態(tài)隨機存取存儲器)的半導體器件。背景技術為了降低SRAM電路在待機時的漏電流,將存儲器陣列的接地布線的電位設定為比接地電位(0V)高的電位(電源電位和接地電位之間的電位)是有效的。由此,能夠降低構成存儲器單元的斷開狀態(tài)的MOS(MetalOxideSemiconductor:金屬氧化物半導體)晶體管的亞閾值漏電流。例如,日本特開2004-206745號公報(專利文獻1)中,通過設置控制接地布...
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