技術(shù)編號(hào)：11527791
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種微晶結(jié)構(gòu)，更具體地，涉及一種用于制造大尺寸微晶結(jié)構(gòu)的系統(tǒng)和方法。背景技術(shù)微晶結(jié)構(gòu)，例如在第’989專利中公開的結(jié)構(gòu)，具有許多應(yīng)用，對(duì)于很多這種應(yīng)用需要特定的最小尺寸的結(jié)構(gòu)。第’989專利中公開的制造工藝包括通過將適合的液態(tài)光單體曝光在穿過一個(gè)或多個(gè)光掩膜的準(zhǔn)直光下而形成微晶結(jié)構(gòu)。該液態(tài)光單體在光聚合過程中會(huì)經(jīng)歷折射率變化，這可以引起聚合物光波導(dǎo)的形成。如果光敏單體在適當(dāng)?shù)臈l件下曝光在光(一般為UV)下，例如小的圓形區(qū)域的聚合的起始區(qū)域?qū)ⅰ安东@”光并將其引導(dǎo)至聚合區(qū)域的尖端處，進(jìn)一步...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。