技術編號：11518033
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種簡易光刻機。背景技術光刻機又稱掩模對準曝光機，常用于電子工藝中硅片、電路版的曝光工藝工序。光刻機通常以高壓汞燈作為光源，通過光路優(yōu)化得到均勻穩(wěn)定的以紫外光為主的光線對光刻膠進行曝光。商品化的光刻機的體積龐大而且價格昂貴，一般的光刻機售價都在十幾萬元以上，因此對于普通精度的曝光（>1μm），使用簡易的光刻機即可滿足光刻要求。目前除采用商品化光刻機進行曝光以外，對于簡單的曝光，通常采用汞燈直接照射的方法。直接照射法的曝光方式有幾個明顯的缺點，首先是操作人員曝露在強紫外光的環(huán)境中，...
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