技術編號：11444344
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及新穎光酸生成劑化合物(“PAG”)和包含所述PAG化合物的光阻劑組合物。具體地說，本發(fā)明PAG化合物在有機溶劑中具有極佳溶解度并且在光刻工藝中展現(xiàn)出比常規(guī)PAG化合物更高的敏感度和比常規(guī)PAG化合物更好的性能。背景技術光阻劑為將圖像轉移到襯底的感光性膜。其形成負像或正像。將光阻劑涂布于襯底上后，經由圖案化光掩模使涂層曝露于如紫外光的活化能源，在光阻涂層中形成潛像。光掩模具有界定需要轉移到底層襯底的圖像的對活化輻射不透明和透明的區(qū)域。已證實化學增幅型光阻劑適用于在半導體制造中形成超精細圖...
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