技術(shù)編號(hào)：11427567
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及冶金領(lǐng)域，且特別涉及一種低硼碳質(zhì)還原劑及其制備方法。背景技術(shù)物理法生產(chǎn)太陽能級(jí)多晶硅，生產(chǎn)安全、成本低、能耗低、無污染，但要求硅中的硼(B)含量<0.3ppm。目前工業(yè)硅中的硼含量都大于0.3ppm，主要原因是冶煉工業(yè)硅所用碳質(zhì)還原劑中的硼含量大于0.3ppm。此外，現(xiàn)有的碳質(zhì)還原劑主要通過提純石油焦、天然石墨、炭黑、活性炭等方法獲取含硼量較低的碳質(zhì)還原劑。提純的方法有氫氟酸法、堿酸法、氯化焙燒法等。這些方法不僅污染大、能耗高、對(duì)設(shè)備腐蝕嚴(yán)重，而且產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定以及脫硼效果也不理...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。