技術編號：11405630
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及曝光機技術領域，更具體地說，涉及一種曝光機。背景技術曝光機是集電子光學、電氣、機械、真空、計算機技術等于一體的復雜的半導體加工設備，70年代以后廣泛應用于半導體集成電路制造業(yè)，是在計算機的控制下，利用聚焦電子束對有機聚合物(通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠)進行曝光，它常用于半導體制造，光電電子，平板，射頻微波，衍射光學，微機電系統(tǒng)，凹凸或覆晶設備、電路板和其他要求精細印制領域。傳統(tǒng)手動曝光機一般需要一名曝光手和三名對位手作業(yè)，即需要一個曝光工位和三個對位工位，由對位手將材料對位后再給曝...
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