技術(shù)編號(hào)：11371836
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及磁控濺射真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種平面靶材固定壓緊裝置。背景技術(shù)近年來(lái)，隨著科學(xué)的發(fā)展，技術(shù)的進(jìn)步，表面科學(xué)和納米薄膜變的越來(lái)越受重視，大到航空航天，小到手機(jī)手表，越來(lái)越多的薄膜技術(shù)被應(yīng)用，而獲取薄膜的技術(shù)也在不斷的發(fā)展和進(jìn)步，現(xiàn)如今，磁控濺射技術(shù)已經(jīng)被廣泛應(yīng)用，為了獲得各種性能的薄膜，這種技術(shù)日新月異。這種技術(shù)的關(guān)鍵在于可以通過(guò)不同種的電源，在基材上進(jìn)行各種各樣材料的鍍膜，獲得各種不同材料的納米級(jí)的薄膜，所以靶材是這項(xiàng)技術(shù)的重中之重。對(duì)于鍍膜生產(chǎn)企業(yè)來(lái)說(shuō)，時(shí)間是生產(chǎn)最重要的一...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。