技術編號：11146893
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明屬于材料加工、機械制造領域，具體涉及一種超低氣氛下的高能高速等離子射流沉積SiC涂層及其制備方法和應用。背景技術碳化硅(SiC)具有硬度高、高溫強度高、抗高溫氧化性能與熱穩(wěn)定性優(yōu)越的特點，而且熱傳導率高、禁帶寬度高、抗中子輻射損傷性能優(yōu)越，已經(jīng)作為常溫耐磨材料、高溫結(jié)構材料、加熱器件材料、以及大功率半導體器件材料得到廣泛應用，而且，也以單一成分的耐磨損與功能涂層、與其他材料構成的復合涂層的形式得到了應用。近年來，隨著核能技術的發(fā)展以及對其安全性要求的進一步提高，采用表面涂層對核反應堆包殼的...
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