技術(shù)編號(hào)：11142542
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及通過(guò)非活性氣體或者潔凈干燥空氣等清洗氣體對(duì)保存被保存物的保存容器的內(nèi)部進(jìn)行清洗處理的清洗裝置、清洗系統(tǒng)、清洗方法以及清洗系統(tǒng)中的控制方法。背景技術(shù)已知有一種清洗裝置，通過(guò)向保存半導(dǎo)體晶片或者玻璃基板等被保存物的保存容器的內(nèi)部注入清洗氣體來(lái)保持潔凈度(進(jìn)行所謂的清洗處理)。在這樣的清洗裝置中，例如存在想要通過(guò)希望的流量以及/或者注入模式向保存容器內(nèi)注入清洗氣體的需求。作為滿(mǎn)足這種需求的技術(shù)，存在以下的清洗裝置(專(zhuān)利文獻(xiàn)1)：按照配置于上下左右的每個(gè)架來(lái)設(shè)置向保存容器供給清洗氣體的供給機(jī)構(gòu)...
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