技術(shù)編號(hào)：11052882
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜板。背景技術(shù)目前液晶顯示面板的陣列基板上的薄膜晶體管電路為多層結(jié)構(gòu)，需要通過VIA(過孔)連接不同層的電路，實(shí)際生產(chǎn)中經(jīng)常由于過孔的邊界斜坡的坡度(profile)較大，導(dǎo)致ITO(氧化銦錫)電極層沉積時(shí)發(fā)生斷路(stepopen)，從而引發(fā)各種顯示問題，產(chǎn)品良率大幅下降，生產(chǎn)成本隨之升高。過孔的刻蝕profile很大程度上是受掩膜板的圖案形狀(maskprofile)影響，而掩膜板的圖案形狀(maskprofile)受曝光影響較大。通過改善過孔邊緣的...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。