技術(shù)編號：10858045
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。目前通行的離子速度成像儀是荷蘭科學(xué)家Eppink和Parker在1997年設(shè)計(jì)，他們通過設(shè)計(jì)三塊帶圓孔的極板，在一定的電壓配置下，形成離子透鏡，實(shí)現(xiàn)對具有相同速度但是不同位置的帶電粒子進(jìn)行聚焦，然后被探測器收集。在離子透鏡作用下，不同位置的帶電粒子聚焦在探測器的一個(gè)點(diǎn)上，這大大提高了離子速度成像的分辨率。然而，在目前通行的離子速度成像裝置上，測得的離子速度影像通常很難正好在探測器中央。這是由于外場影響造成的，外場影響包括外電場、外磁場，這些來源具體到離子速...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。