技術(shù)編號(hào):10693613
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。等離子體處理例如在太陽能電池制造、微電子技術(shù)或基底表面(例如玻璃)的提純中用于沉積或去除層或顆粒,或用于例如通過等離子體浸沒-離子注入來添加層。為了提高在等離子體處理中的產(chǎn)量,應(yīng)用了批量系統(tǒng)(batch-System),在批量系統(tǒng)中同時(shí)處理多個(gè)基底。在此,可以并排或上下相疊地布置具有待處理的表面的基底。由US 4,287,851 B和EPO 143 479 Al中公知了一種設(shè)施,在該設(shè)施中,給每個(gè)基底都配屬了與其他的等離子體處理區(qū)分開運(yùn)行的等離子體處理區(qū)。...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。