技術(shù)編號：10625745
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。在半導(dǎo)體器件的制造步驟中的光刻步驟中，通過將涂敷、顯影裝置和曝光裝置連接而構(gòu)成的抗蝕劑圖案形成系統(tǒng)，在作為基板的半導(dǎo)體晶片(以下記為晶片)上形成抗蝕劑圖案。涂敷、顯影裝置具有為了在晶片上形成抗蝕劑膜而涂敷抗蝕劑的抗蝕劑涂敷模塊；向利用曝光裝置而曝光的抗蝕劑膜供給顯影液而形成抗蝕劑圖案的顯影模塊;和向晶片供給藥液并在利用曝光裝置進行曝光時形成用于保護抗蝕劑膜的保護膜的保護膜形成模塊等的供給各種藥液的液體處理模塊。另外，在涂敷、顯影裝置中還設(shè)置有在各液體處理前...
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