技術(shù)編號:10625721
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。晶圓缺陷有的是在晶圓工藝過程中,由于溫度、壓力、介質(zhì)組分濃度,工藝機(jī)臺,操作人員,工廠環(huán)境等變化而引起的;有的則是在晶體形成后,由于質(zhì)點(diǎn)的熱運(yùn)動或受應(yīng)力作用而產(chǎn)生,它們可以在晶格內(nèi)迀移,以至消失,同時又可有新的缺陷產(chǎn)生,從而造成晶圓的低良率?,F(xiàn)有技術(shù)中,為了檢測出造成缺陷晶圓的機(jī)臺,會將只通過該缺陷晶圓的腔體對應(yīng)的機(jī)臺找出來,但是,采用這種方式往往會找出很多機(jī)臺,而無法進(jìn)一步確認(rèn)是哪一個機(jī)臺異常。針對上述的無法精確確認(rèn)異常機(jī)臺的問題,目前尚未提出有效的解決...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。