技術(shù)編號(hào)：10617109
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 熱轉(zhuǎn)印膜具有基底層及形成于此基底層上的光熱轉(zhuǎn)化層。含有諸如發(fā)光材料、電 子傳輸化合物、空穴傳輸化合物等的轉(zhuǎn)印材料的轉(zhuǎn)印層可在光熱轉(zhuǎn)化層上形成。當(dāng)光熱轉(zhuǎn) 化層用在吸收波長(zhǎng)下的激光照射時(shí)，轉(zhuǎn)印層可通過光熱轉(zhuǎn)化層轉(zhuǎn)化的熱轉(zhuǎn)印至受體。 光熱轉(zhuǎn)化化THC)層包含光熱轉(zhuǎn)化材料，其吸收在期望波長(zhǎng)下的光，且使至少一部 分的入射光轉(zhuǎn)化成熱。 傳統(tǒng)熱轉(zhuǎn)印膜具有因?yàn)樵诮t外線范圍的波長(zhǎng)下的吸收率差異及根據(jù)照射的激 光波長(zhǎng)而定的光學(xué)密度(0D)差異發(fā)生，而在轉(zhuǎn)印處理期間的激光照...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。