技術(shù)編號：10533747
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。目前，期望提高在光掩模中形成的轉(zhuǎn)印用圖案的精度，進(jìn)而提高已形成的轉(zhuǎn)印用圖案的檢查精度。在專利文獻(xiàn)I(日本特開2010-134433號公報)中記載有當(dāng)光掩模圖案被轉(zhuǎn)印在被轉(zhuǎn)印體上時能夠提高其坐標(biāo)精度的描繪方法、描繪裝置。尤其是，在專利文獻(xiàn)I中記載了如下方法在光掩模制造工序中，為了消除由于描繪轉(zhuǎn)印用圖案時的膜面(圖案形成面)的形狀與曝光時不同而使得被轉(zhuǎn)印體上沒有形成按照設(shè)計的圖案的問題，取得校正后的描繪數(shù)據(jù)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I日本特開2010-13...
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