技術(shù)編號(hào)：10511091
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 在用于制作半導(dǎo)體設(shè)備的方法中光刻工藝為重要工作之一，其包括將光敏樹(shù)脂組 合物施加于晶片，將預(yù)先設(shè)計(jì)的圖案轉(zhuǎn)印到其上，然后根據(jù)所轉(zhuǎn)印的圖案適當(dāng)蝕刻因此形 成電子電路。 這種光刻工藝可以按以下依次實(shí)施（1)將光敏樹(shù)脂組合物均勻施加到晶片表面 的涂覆工序；（2)蒸發(fā)來(lái)自所施加的光敏膜的溶劑以使光敏膜附著在晶片表面上的軟烘烤 工序；（3)在使用如紫外線等光源重復(fù)并依次在掩模上進(jìn)行電路圖案的縮小投影的同時(shí)曝 光光敏膜的曝光工序，因此將掩模的圖案轉(zhuǎn)印到光敏膜；（4)...
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