技術(shù)編號：10300187
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。離子注入是一種將離子束射到固體材料并停留于固體材料內(nèi)的技術(shù)，被廣泛應(yīng)用于材料表面改進(jìn)、半導(dǎo)體摻雜等領(lǐng)域?，F(xiàn)有的離子注入設(shè)備一般需要通過通氣結(jié)構(gòu)向工件所處的真空室注入例如三氟化硼之類的工藝氣體來完成離子注入。通氣結(jié)構(gòu)包括若干與真空室連通的氣體通道，工藝氣體經(jīng)過氣體通道進(jìn)入真空室后，會被位于真空室內(nèi)的離子源通過直流放電或高配放電等手段電離成離子，電離形成的離子會在加速器的作用下射至工件表面，從而完成離子注入。由于工藝氣體內(nèi)不可避免會有一些固體污染物存在，這些污...
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