此限制本實(shí)用新型之范圍，基板110可以是雙側(cè)彎曲、三側(cè)彎曲或四側(cè)彎曲的，且在各個(gè)彎曲部分可以采用本實(shí)用新型之多個(gè)實(shí)施方式中光學(xué)膜120與遮光層130的配置。
[0046]于本實(shí)施方式中，光學(xué)膜120可以是抗反射層、抗眩光層、抗指紋層以及防霧層。以抗反射層為例，其可以由高低折射率交錯(cuò)的多個(gè)層體所形成，其材料可以是氮化硅、氮氧化硅、氧化硅、氟化鎂等，或者，抗反射層亦可以由多個(gè)折射率漸變的層體所組成。以抗眩光層為例，材料可以是樹(shù)脂，例如聚氨酯樹(shù)脂、丙烯酸環(huán)氧樹(shù)脂、丙烯酸樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、醇酸樹(shù)脂或聚酯樹(shù)脂。光學(xué)膜120可以是該領(lǐng)域各種常見(jiàn)的材料，在此不一一贅述。
[0047]于本實(shí)施方式中，遮光層130的材料可為油墨、光阻或油墨和光阻組成的疊層結(jié)構(gòu)，例如白色油墨、光阻或黑色油墨、光阻。遮光層130具有較低的穿透率，以遮蔽與保護(hù)蓋板100搭配的其他組件的周邊電路，可避免周邊線路的反光影響視覺(jué)效果。遮光層130的制造過(guò)程可以包含涂布油墨(例如網(wǎng)印)以及烘烤步驟。
[0048]圖2為根據(jù)本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式的保護(hù)蓋板100的剖面圖。本實(shí)施方式的保護(hù)蓋板100與圖1的保護(hù)蓋板100相似，差別在于:本實(shí)施方式之光學(xué)膜120部分設(shè)置于彎折部114上，且光學(xué)膜120所覆蓋的子部114c的夾角A等于或小于前述的預(yù)定夾角，例如15度，但光學(xué)膜120仍會(huì)露出彎曲度較大的部分彎折部114，例如光學(xué)膜120露出夾角A大于15度子部114c。
[0049]相似地，本實(shí)施方式中，遮光層130的開(kāi)口 132于平坦部112的上表面112a之延伸平面上的正投影形狀與光學(xué)膜120于平坦部112的上表面112a之延伸平面上的正投影形狀大致相同。同樣地，光線通過(guò)遮光層130的開(kāi)口 132勢(shì)必受到光學(xué)膜120的調(diào)整，而可以帶來(lái)較好的影像質(zhì)量。本實(shí)施方式的其他細(xì)節(jié)大致上如圖1的實(shí)施方式所述，在此不再贅述。
[0050]圖3為根據(jù)本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式的保護(hù)蓋板100的剖面圖。本實(shí)施方式的保護(hù)蓋板100與圖1的保護(hù)蓋板100相似，差別在于:本實(shí)施方式之保護(hù)蓋板100之開(kāi)口 132于光學(xué)膜120上的正投影形狀與光學(xué)膜120的形狀不同。換句話說(shuō)，遮光層130a于光學(xué)膜120上的正投影不必配置與光學(xué)膜120剛好相接，而是有部分重疊的，但光學(xué)膜120仍會(huì)露出彎曲度較大的部分彎折部114。同樣地，通過(guò)遮光層130的開(kāi)口 132的光線勢(shì)必受到光學(xué)膜120的調(diào)整，而可以帶來(lái)較好的影響質(zhì)量。本實(shí)施方式的其他細(xì)節(jié)大致上如圖1的實(shí)施方式所述，在此不再贅述。
[0051]圖4A至圖4F根據(jù)本實(shí)用新型的一實(shí)施方式的保護(hù)蓋板100于多個(gè)制造階段的剖面圖。下面以對(duì)應(yīng)圖1的保護(hù)蓋板100的制造方法來(lái)說(shuō)明。
[0052]首先，參照?qǐng)D4A，形成遮光層130至少于基板110之彎折部114上。遮光層130包含開(kāi)口 132，開(kāi)口 132對(duì)應(yīng)于基板110之平坦部112，以露出部分之平坦部112。于本實(shí)施方式中，如圖所示，靠近彎折部114的遮光層130(即遮光層130a)同時(shí)形成于平坦部112與彎折部114上，遠(yuǎn)離彎折部114的遮光層130(即遮光層130b)僅形成于平坦部112上，且遮光層130之開(kāi)口 132僅對(duì)應(yīng)于平坦部112而不對(duì)應(yīng)于彎折部114。于其他實(shí)施方式中，雖然在此并未以圖式說(shuō)明，遮光層130a可以?xún)H形成于彎折部114上，而開(kāi)口 132正好地對(duì)應(yīng)于基板110之平坦部112。更甚者，于部份實(shí)施方式中，開(kāi)口 132還可對(duì)應(yīng)于部份彎折部114(參考圖2)，其設(shè)置規(guī)則大致上如前所述，在此不再贅述。
[0053]參照?qǐng)D4B，形成光阻層200于基板110相對(duì)遮光層130的一側(cè)，光阻層200覆蓋彎折部114和至少部分平坦部112，本實(shí)施例中光阻層200全面覆蓋基板110相對(duì)設(shè)置有遮蔽層130的表面。光阻層200的材料為正型光阻。于此，光阻層可以透過(guò)沉積、涂布以及烘烤等步驟而形成。
[0054]參照?qǐng)D4C，經(jīng)由光線通過(guò)遮光層130之開(kāi)口 132對(duì)光阻層200進(jìn)行曝光。應(yīng)了解到，于步驟中，光線是從遮光層130往基板110的方向前進(jìn)，而對(duì)基板另一側(cè)的光阻層200曝光，使光阻層200對(duì)應(yīng)遮光層130之開(kāi)口 132的部分形成一曝光部200a。遮光層130可以作為此曝光過(guò)程的光罩，而使得光阻層200的曝光圖案與遮光層130之開(kāi)口 132相似。
[0055]參照?qǐng)D4D，移除光阻層200(參照?qǐng)D4C)之曝光部200a，其中光阻層200(參照?qǐng)D4C)之剩余部分形成覆膜200’，覆膜200’包含因移除曝光部200a而形成的鏤空部202’，鏤空部202 ’對(duì)應(yīng)于平坦部112而露出部分之平坦部112。如前所述，于部份實(shí)施方式中，由于遮光層130作為光阻層200(參照?qǐng)D4C)曝光過(guò)程的光罩，鏤空部202’與遮光層130之開(kāi)口 132具有大致相同的圖案，即遮光層130之開(kāi)口 132與覆膜200’之鏤空部202’在基板110上的正投影相同。如同前述的遮光層130的配置，于本實(shí)施方式中，部分覆膜200’可形成于該平坦部112上，覆膜200，之鏤空部202，可僅對(duì)應(yīng)于平坦部112而不對(duì)應(yīng)于彎折部114。于其他實(shí)施方式中，雖然在此并未以圖式說(shuō)明，鏤空部202’可對(duì)應(yīng)于部份彎折部114。
[0056]接著，參照?qǐng)D4E，形成光學(xué)膜120于基板110上，且光學(xué)膜120覆蓋覆膜200’并填入覆膜200’之鏤空部202’。
[0057]參照?qǐng)D4F，移除覆膜200’(參照?qǐng)D4E)以及位于覆膜200’(參照?qǐng)D4E)上的光學(xué)膜120，使光學(xué)膜120之剩余部分可位于基板110之平坦部112上。此移除步驟可以透過(guò)手動(dòng)剝除或者機(jī)械剝除進(jìn)行。
[0058]如前所述，由于本實(shí)施方式藉由光刻的方式制作光學(xué)膜120，遮光層130之開(kāi)口132于剩余的光學(xué)膜120上的正投影形狀與剩余的光學(xué)膜120的形狀大致相同。如此一來(lái)，通過(guò)遮光層130之開(kāi)口 132的光線勢(shì)必受到光學(xué)膜120的調(diào)整，而可以帶來(lái)較好的影像質(zhì)量。且，光學(xué)膜120不會(huì)因?yàn)樵O(shè)置于彎曲較大的曲面上而產(chǎn)生異色的問(wèn)題。
[0059]以上圖4B至圖4D介紹藉由遮光層130以光刻方式形成覆膜200’的過(guò)程，但實(shí)際應(yīng)用上，可以透過(guò)多種方式形成覆膜200’，并不需以此為限。舉例而言，覆膜200’可以是具有黏著層的軟性薄膜基板，軟性薄膜基板可以提供后續(xù)剝除覆膜200’時(shí)一定的支撐力，可以透過(guò)將覆膜200 ’之黏著層與基板110直接接觸，而將覆膜200 ’黏貼至彎折部114上，后續(xù)再移除覆膜的步驟中還包含將黏著層一并移除。在制作光學(xué)膜120時(shí)，光學(xué)膜120即可設(shè)置于覆膜200’的軟性薄膜基板上。
[0060]或者，于其他實(shí)施方式中，可以透過(guò)涂布液態(tài)膠體于彎折部114上，再透過(guò)固化或烘烤等方式而使膠體形成覆膜200’。覆膜200’的材料可以是固化后能提供移除(剝除)步驟一定支撐力的材料，舉例而言，覆膜200 ’可以是樹(shù)脂。
[0061 ]于這些其他的覆膜200 ’形成方法中，并不一定要配置覆膜200 ’之鏤空部202 ’與遮光層130之開(kāi)口 132具有大致相同的圖案。換句話說(shuō)，遮光層130之開(kāi)口 132于剩余的光學(xué)膜120上的正投影形狀與剩余的光學(xué)膜120的形狀不一定相同，可以存在其他多種變型。
[0062]綜上所述，本實(shí)用新型提供一種保護(hù)蓋板，設(shè)置光學(xué)膜位于保護(hù)蓋板的平坦部，避免光學(xué)膜設(shè)計(jì)于保護(hù)蓋板過(guò)于彎曲的部份，以免因制程因素導(dǎo)致光學(xué)膜不均勻或者因光學(xué)膜本身設(shè)計(jì)不適用于曲面而產(chǎn)生上述的異色問(wèn)題。
[0063]雖然本實(shí)用新型已以多種實(shí)施方式揭露如上，然其并非用以限定本實(shí)用新型，任何本領(lǐng)域普通技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)，應(yīng)可作各種的變動(dòng)與修改，因此本實(shí)用新型的保護(hù)范圍當(dāng)以權(quán)利要求書(shū)所界定的為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種保護(hù)蓋板，其特征在于，包含: 一基板，包含一平坦部以及設(shè)置于該平坦部之至少一側(cè)的一彎折部； 一光學(xué)膜，設(shè)置于該平坦部上，且露出至少部分該彎折部；以及 一遮光層，設(shè)置在該基板相對(duì)該光學(xué)膜的一側(cè)，該遮光層具有一開(kāi)口以露出至少部分該光學(xué)膜。2.如權(quán)利要求1所述的保護(hù)蓋板，其特征在于，露出的該彎折部具有一曲面以及與該曲面的相切的一切面，該切面與該平坦部設(shè)置有該光學(xué)膜的表面夾角大于15度。3.如權(quán)利要求1所述的保護(hù)蓋板，其特征在于，該遮光層與該光學(xué)膜在垂直于該基板的方向上不重疊。4.如權(quán)利要求1所述的保護(hù)蓋板，其特征在于，該開(kāi)口于該光學(xué)膜上的正投影形狀與該光學(xué)膜的形狀相同。5.如權(quán)利要求1至4任意一項(xiàng)所述的保護(hù)蓋板，其特征在于，該光學(xué)膜不設(shè)置于該彎折部上。6.如權(quán)利要求1至4任意一項(xiàng)所述的保護(hù)蓋板，其特征在于，該遮光層僅設(shè)置于該彎折部，該光學(xué)膜覆蓋部分或全部的該平坦部。7.如權(quán)利要求1至4任意一項(xiàng)所述的保護(hù)蓋板，其特征在于，該遮光層設(shè)置于該彎折部，且該遮光層部分設(shè)置于該平坦部。8.如權(quán)利要求1所述的保護(hù)蓋板，其特征在于，所述光學(xué)膜為高低折射率交錯(cuò)的多個(gè)層體所形成的抗反射膜。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型提供一種保護(hù)蓋板。保護(hù)蓋板包含基板、光學(xué)膜以及遮光層。基板包含平坦部以及設(shè)置于平坦部之至少一側(cè)的彎折部。光學(xué)膜設(shè)置于平坦部上，且露出至少部分彎折部。遮光層設(shè)置在基板相對(duì)光學(xué)膜的一側(cè)，遮光層具有開(kāi)口以露出至少部分光學(xué)膜。
【IPC分類(lèi)】G02B1/115, G06F3/14, G06F3/041, G02B5/02
【公開(kāi)號(hào)】CN205302234
【申請(qǐng)?zhí)枴?br>【發(fā)明人】許毅中, 徐國(guó)書(shū), 徐承宏, 徐俊, 楊婷婷
【申請(qǐng)人】宸鴻科技(廈門(mén))有限公司
【公開(kāi)日】2016年6月8日
【申請(qǐng)日】2015年12月22日