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低反射率制品及其制造方法_5

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proved Toughness and Scratch Resis化nee)的美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?2/277573,其要求2007年11月29日提交的美國(guó)臨 時(shí)申請(qǐng)?zhí)?1/004677的優(yōu)先權(quán);Dejneka等人于2009年2月25日提交的題為《用于娃酸鹽玻璃 的澄清劑KFining Agents for Silicate Glasses)美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?2/392577,其要求 2008年2月26日提交的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)?zhí)?1/067130的優(yōu)先權(quán);Dejneka等人于2009年2月26日 提交的題為《經(jīng)過(guò)離子交換的快速冷卻玻璃》(Ion-Exchanged,Fast Cooled Glasses)美國(guó) 專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?2/393241,其要求2008年2月29日提交的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)?zhí)?1/067732的優(yōu)先權(quán); Barefoot等人于2009年8月7日提交的題為《強(qiáng)化玻璃制品及其制備方法》(Strengthened Glass Articles and Methods of Making)的美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?12/537393,其要求2008年8 月8日提交的題為《化學(xué)鋼化防護(hù)玻璃KChemically Tempered Cover Glass)的美國(guó)臨時(shí) 申請(qǐng)?zhí)?1/087324的優(yōu)先權(quán);Barefoot等人于2009年8月21日提交的題為《抗裂和抗刮擦玻 璃及由其制備的罩殼KCrack and Scratch Resistant Glass and Enclosures Made Therefrom)的美國(guó)臨時(shí)專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?1/235767; W及De化efoi等人于2009年8月21日提交的 題為《用于下拉法的錯(cuò)石相容性玻璃KZircon CompaUble Glasses for Down Draw)的美 國(guó)臨時(shí)專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?1/235762。
[0116] W下實(shí)施例中描述的玻璃表面和玻璃板可使用任何合適的可涂覆粒子的玻璃基 材或類(lèi)似基材,例如經(jīng)過(guò)離子交換的基材,且可包括例如表2所列的玻璃組合物1~11或它 們的組合。
[0117] 表2具有代表性的玻璃基材組合物 [011 引
[0119] 化inotsuka在US 8202582中提到作為減反射表面的制造中的單一微粒膜蝕刻掩 模來(lái)使用的二維密堆積微結(jié)構(gòu)。蝕刻掩模通過(guò)滴落步驟、揮發(fā)步驟和轉(zhuǎn)移步驟來(lái)制備,其 中,單一微粒膜被轉(zhuǎn)移至基材。由下式所定義的該單一微粒膜蝕刻掩模相對(duì)于微粒陣列的 未對(duì)準(zhǔn)率D(%)
[0120] 0(%) = |B-A| XIOO/A
[0121] 小于或等于10%,其中,A是微粒的平均直徑,B是膜中微粒之間的平均間距。 實(shí)施例
[0122] W下實(shí)施例用于更完整地描述上述本
【發(fā)明內(nèi)容】
的應(yīng)用方式,并列出為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明 的各方面而構(gòu)思的最佳實(shí)施方式。運(yùn)些實(shí)施例不對(duì)本發(fā)明的范圍構(gòu)成限制,而僅僅是出于 舉例說(shuō)明的目的。加工例進(jìn)一步描述了本發(fā)明是如何實(shí)施的。
[0123] 微粒化表面的制備
[0124] 實(shí)施例1(預(yù)計(jì))
[0125] 制備在相鄰微粒之間具有基本上均勻間隔或分離距離(即具有非密堆積的六邊形 幾何構(gòu)型)的微?;砻婧驼w粘合劑層。人們已論證了若干用于制造非密堆積的納米微 粒單層的方法,包括對(duì)于減反射效果的論證,各種基材上的所述非密堆積的納米微粒單層 的微粒之間具有受控間隔。運(yùn)些方法包括在光刻圖案上的對(duì)流組裝(參見(jiàn)例如化ogenboom 等人的《溶劑蒸發(fā)過(guò)程中密堆積和非密堆積膠體晶體的模板誘導(dǎo)生長(zhǎng)KTemplate-Induced Growth of Close-Packed and Non-Close-Packed Colloidal Crystals during Solvent Evaporation),^ηο Letters,4,2,p. 205,2004);水凝膠球體的浸涂,可使其在設(shè)置后在干 燥和加熱過(guò)程中收縮(參見(jiàn)Zhang等人的《來(lái)源于經(jīng)過(guò)生物礦化的水凝膠球體的自組裝二維 非密堆積陣列及其圖形化應(yīng)用》(Tw〇-Dimensional Non-Close-Packing Arrays Derived from Self-Assembly of Biomineralized Hydrogel Spheres and Their Patterning Applications),化em.Mater. 17,p.5268,2005和圖3W及相關(guān)文字);Si〇2納米微球的旋涂 和剪切對(duì)齊,可選地向該模板中進(jìn)一步添加材料(參見(jiàn)Venkatesh等人的《二維非密堆積膠 體晶體的廣義制造 》(Generalized Fabrication of Two-Dimensional Non-Close-Packed Colloidal 吐ystals),Langmuir,23,P.8231,2007和圖5W及相關(guān)文字);W及通過(guò)轉(zhuǎn)移至 基材來(lái)在空氣-水或燒控-水界面處進(jìn)行的靜電受控自組裝,可選地使用很薄(大約17nm)的 粘合劑層(參見(jiàn)Ray等人的《使用界面膠體微粒自組裝的亞微米表面圖案KSubmicrometer Surface Patterning Using Interfacial Colloidal Particle Self-Assembly), Langmuir,25,p. 7265,2009和圖8 W及相關(guān)文字;Bhawa化ar等人的《用于使非平面表面圖案 化的膠體平板印刷方法的進(jìn)展KDevelopment of a Colloidal Lithogra曲y Method for Patterning No噸lanar Surfaces),Langmui;r,26,p. 16662,2010)。然而,運(yùn)些前人的工作 并未對(duì)W下內(nèi)容之間所需的關(guān)系做出詳細(xì)說(shuō)明:粒徑、微粒間隔、微粒沉入基材的整體粘合 劑區(qū)域中W及在本發(fā)明中詳細(xì)說(shuō)明的用于實(shí)現(xiàn)可見(jiàn)光范圍內(nèi)優(yōu)異的低反射率性能W及由 于可選的微粒下沉或燒結(jié)而得到的強(qiáng)化的耐久性。
【主權(quán)項(xiàng)】
1 · 一種減反射制品,其包含: 基材; 在所述基材的表面的至少一部分上的整體粘合劑區(qū)域;和 部分嵌入所述整體粘合劑區(qū)域中的納米微粒單層, 其中,所述整體粘合劑區(qū)域的厚度(g)與所述納米微粒單層的厚度或直徑(D)的比例 (g:D)為1:50~3:5。2. 如權(quán)利要求1所述的制品,其特征在于,所述基材、所述整體粘合劑區(qū)域和所述納米 微粒單層的納米微粒各自獨(dú)立地選自玻璃、聚合物、陶瓷、復(fù)合物或它們的組合中的至少一 種。3. 如權(quán)利要求1或2所述的制品,其特征在于,部分嵌入的所述納米微粒單層包含平均 直徑(D)為50nm~大約300nm的納米微粒。4. 如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的制品,其特征在于,所述整體粘合劑區(qū)域包含所述 基材的表面,所述基材具有以lnm~大約150nm的沉浸深度(g)部分嵌入所述基材的表面的 納米微粒,且所述納米微粒單層包含平均直徑(D)為50nm~大約300nm的納米微粒。5. 如權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的制品,其特征在于,所述納米微粒單層的納米微粒 包含平均直徑(D)小于至少一種可見(jiàn)光波長(zhǎng)的二氧化硅球體。6. 如權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的制品,其特征在于,所述納米微粒單層具有多個(gè)至 少0.1~1平方微米的未微?;目昭ɑ騾^(qū)域。7. 如權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的制品,其特征在于,所述納米微粒單層包含亞波長(zhǎng) 的球形二氧化硅微粒。8. -種如權(quán)利要求1所述的制品的制造方法,所述方法包括: 將納米微粒單層施用于整體粘合劑區(qū)域,所述整體粘合劑區(qū)域包含所述基材的至少一 個(gè)瞬時(shí)軟化表面。9. 如權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,將所述納米微粒單層施用于所述基材的表面 的至少一個(gè)瞬時(shí)軟化表面是通過(guò)將具有瞬時(shí)軟化表面的基材浸入納米微粒的混合物中進(jìn) 行浸涂來(lái)完成的。10. 如權(quán)利要求8或9所述的方法,其特征在于,所述基材的至少一個(gè)瞬時(shí)軟化表面是在 將所述納米微粒單層施用于所述基材的表面之前完成的,且所施用的納米微粒部分地沉入 經(jīng)過(guò)瞬時(shí)軟化的基材的表面中。11. 如權(quán)利要求8~10中任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,所述基材的至少一個(gè)瞬時(shí)軟 化表面是在將所述納米微粒單層施用于所述基材的表面之后完成的,且所施用的納米微粒 部分地沉入經(jīng)過(guò)瞬時(shí)軟化的基材的表面中。12. 如權(quán)利要求8~11中任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,所述納米微粒單層包含亞波 長(zhǎng)球形微粒。13. 如權(quán)利要求12所述的方法,其特征在于,所述亞波長(zhǎng)球形微粒包含至少一種金屬氧 化物。14. 如權(quán)利要求13所述的方法,其特征在于,所述至少一種金屬氧化物包含二氧化硅。15. 如權(quán)利要求8~14中任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,所述方法還包括在將所述納 米微粒單層施用于所述基材的表面的至少一個(gè)瞬時(shí)軟化表面之前和/或之后,利用離子交 換對(duì)所述基材進(jìn)行強(qiáng)化。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種減反射制品,所述制品包含:如本文所定義的基材;在所述基材表面的至少一部分上的整體粘合劑區(qū)域;和部分嵌入所述整體粘合劑區(qū)域中的納米微粒單層。整體粘合劑可包含與基材材料相同或不同的材料。本發(fā)明還涉及制造和使用所述制品的方法。
【IPC分類(lèi)】C03C23/00, C03C17/00
【公開(kāi)號(hào)】CN105683116
【申請(qǐng)?zhí)枴?br>【發(fā)明人】K·W·科齊三世, E·M·考斯克-威廉姆斯
【申請(qǐng)人】康寧股份有限公司
【公開(kāi)日】2016年6月15日
【申請(qǐng)日】2014年8月28日
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