有源陣列基板、顯示面板及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明是有關(guān)于一種有源陣列基板、顯示面板及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 由光配向制程所形成的配向?qū)邮且跃€(xiàn)性偏極化光照射光配向材料以進(jìn)行配向。然 而，光配向材料在配向時(shí)若未反應(yīng)完全，其很有可能在后續(xù)制程中受到制程環(huán)境的影響而 改變配向方向或降低配向能力，導(dǎo)致應(yīng)用此配向?qū)拥娘@示面板的顯示品質(zhì)下降。為了改善 上述問(wèn)題，現(xiàn)有技術(shù)在液晶層中加入光反應(yīng)型單體，并在顯示面板的有源陣列基板與對(duì)向 基板組立之后，通過(guò)紫外光照射，使光反應(yīng)型單體與配向?qū)拥谋韺赢a(chǎn)生鏈結(jié)，并使配向?qū)臃?應(yīng)完全。然而，在配向?qū)臃磻?yīng)完全之前，其他紫外光制程可能會(huì)影響配向?qū)拥呐湎蚰芰Α＠?如是在有源陣列基板與對(duì)向基板的組立制程時(shí)，需通過(guò)高能量的紫外光照射用以接合有源 陣列基板與對(duì)向基板的框膠以使其固化。在照射時(shí)，需設(shè)置遮罩（mask)曝露出框膠并遮蔽 液晶層，以避免高能量的紫外光影響到光反應(yīng)型單體與配向?qū)雍罄m(xù)的配向效果。然而，當(dāng)遮 罩偏移或遮蔽不完全時(shí)，位于周邊的光反應(yīng)型單體以及配向?qū)拥钠渲兄辽僖徽叩姆磻?yīng)波段 若與上述高能量的紫外光的波段重疊都會(huì)影響到配向方向，而造成周邊缺陷（mura)。雖然 可通過(guò)改變光反應(yīng)型單體的反應(yīng)波段，以避免光反應(yīng)型單體受到高能量的紫外光的影響， 但還是難以避免配向?qū)又形捶磻?yīng)完全的側(cè)鏈對(duì)高能量的紫外光產(chǎn)生反應(yīng)。即便使用上述 用以配向的線(xiàn)性偏極化光來(lái)固化框膠，由于線(xiàn)性偏極化光經(jīng)過(guò)液晶層后會(huì)改變其偏極化方 向，因此接觸到線(xiàn)性偏極化光的側(cè)鏈也無(wú)法沿預(yù)定的配向方向排列。有鑒于上述，如何降低 配向?qū)邮苤瞥汰h(huán)境的干擾，而具有良好的配向能力，實(shí)為目前研發(fā)人員亟欲解決的問(wèn)題之 〇

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明提供一種有源陣列基板、顯示面板及其制造方法。
[0004] 本發(fā)明的一種顯示面板的制造方法，其包括以下步驟：于基板上形成有源陣列； 于基板上形成配向?qū)?，其中配向?qū)痈采w有源陣列以及基板；于配向?qū)由闲纬杀Ｗo(hù)層，其中保 護(hù)層全面覆蓋配向?qū)?；以及使基板與對(duì)向基板接合，其中基板與對(duì)向基板之間形成有顯示 介質(zhì)層，且保護(hù)層位于顯示介質(zhì)層與配向?qū)又g。
[0005] 本發(fā)明的一種顯示面板，其包括基板、有源陣列、配向?qū)?、保護(hù)層、對(duì)向基板以及顯 示介質(zhì)層。有源陣列設(shè)置在基板上。配向?qū)痈采w有源陣列以及基板。保護(hù)層設(shè)置在配向?qū)?上，其中保護(hù)層全面覆蓋配向?qū)?。?duì)向基板設(shè)置在基板的對(duì)向。顯示介質(zhì)層設(shè)置在基板與 對(duì)向基板之間，且保護(hù)層位于顯示介質(zhì)層與配向?qū)又g。
[0006] 本發(fā)明的一種有源陣列基板，其包括基板、有源陣列、配向?qū)右约氨Ｗo(hù)層。有源陣 列設(shè)置在基板上。配向?qū)痈采w有源陣列以及基板。保護(hù)層設(shè)置在配向?qū)由?，其中保護(hù)層全 面覆蓋配向?qū)印?br>[0007] 基于上述，本發(fā)明在配向?qū)由显O(shè)置可與配向?qū)拥谋韺赢a(chǎn)生鏈結(jié)的保護(hù)層，以進(jìn)一 步穩(wěn)固配向?qū)拥呐湎蚍较?，并可避免配向?qū)釉谂湎蚝笫艿胶罄m(xù)制程環(huán)境的干擾。因此，本發(fā) 明的配向?qū)涌删哂辛己玫呐湎蚰芰?，而?yīng)用此配向?qū)拥娘@示面板可具有良好的顯示品質(zhì)。
【附圖說(shuō)明】
[0008] 圖1A至圖1D是本發(fā)明的一實(shí)施例的一種顯示面板的制造流程的剖面示意圖。 [0009] 附圖標(biāo)記說(shuō)明：
[0010] 100 :顯示面板；
[0011] 110:基板；
[0012] 120:有源陣列；
[0013] 130 :周邊線(xiàn)路結(jié)構(gòu)；
[0014] 140 :配向?qū)樱?br>[0015] 150:保護(hù)層；
[0016] 160:對(duì)向基板；
[0017] 170:顯示介質(zhì)層；
[0018] 180:框膠；
[0019] A1 :有源區(qū)；
[0020] A2 :周邊區(qū)；
[0021] AR:有源陣列基板。
【具體實(shí)施方式】
[0022] 圖1A至圖1D是本發(fā)明的一實(shí)施例的一種顯示面板的制造流程的剖面示意圖。請(qǐng) 參照?qǐng)D1A，于基板110上形成有源陣列120。基板110的材料可以是玻璃、石英、聚酯類(lèi)、聚 碳酸酯類(lèi)或其它適合的材料。基板110可劃分有有源區(qū)A1以及周邊區(qū)A2。周邊區(qū)A2位于 有源區(qū)A1的至少一側(cè)，且例如環(huán)繞有源區(qū)A1，但不限于此。
[0023] 有源陣列120設(shè)置在基板110上，且位于有源區(qū)A1中。有源陣列120例如包括未 示出的多條掃描線(xiàn)、多條數(shù)據(jù)線(xiàn)、多個(gè)有源元件以及多個(gè)像素電極。掃描線(xiàn)與數(shù)據(jù)線(xiàn)交錯(cuò)設(shè) 置而劃分出陣列排列的多個(gè)像素單元。各像素單元中設(shè)置有至少一與相應(yīng)的掃描線(xiàn)以及數(shù) 據(jù)線(xiàn)電性連接的有源元件以及與有源元件電性連接的像素電極。
[0024] 各有源元件可包括一柵極、一柵絕緣層、一通道層、一源極以及一漏極。此外，有源 陣列120還可包括覆蓋這些有源元件的絕緣層。絕緣層具有多個(gè)開(kāi)口，這些開(kāi)口分別曝露 出其中一漏極的部分區(qū)域，使得這些像素電極可分別通過(guò)其中一開(kāi)口與對(duì)應(yīng)的漏極電性連 接。
[0025] 依據(jù)顯示面板種類(lèi)的不同，像素電極的一側(cè)可進(jìn)一步設(shè)置至少一共用電極，且當(dāng) 像素電極與共用電極皆設(shè)置在基板110上時(shí)，像素電極與共用電極可通過(guò)一介電層而分隔 開(kāi)來(lái)。舉例而言，當(dāng)顯示面板為邊緣電場(chǎng)切換（Fringe Field Switching，F(xiàn)FS)式顯示面板 時(shí)，像素電極與共用電極例如呈上下配置的關(guān)系，且位于上方的電極曝露出至少部分位于 下方的電極，以在平行于基板110的方向上形成水平電場(chǎng)。另一方面，當(dāng)顯示面板為共平面 切換（In-Plane Switching，IPS)式顯示面板時(shí)，像素電極與共用電極例如呈左右配置的關(guān) 系，且兩者在平行于基板110的方向上呈交替排列。
[0026] 如圖1A所示，可進(jìn)一步于基板110上形成周邊線(xiàn)路結(jié)構(gòu)130。周邊線(xiàn)路結(jié)構(gòu)130 位于周邊區(qū)Α2中，且例如包括未示出的信號(hào)線(xiàn)、接地線(xiàn)或其他線(xiàn)路等。
[0027] 請(qǐng)參照?qǐng)D1Β，于基板110上形成配向?qū)?40,其中配向?qū)?40覆蓋有源陣列120以 及基板110。在本實(shí)施例中，配向?qū)?40進(jìn)一步覆蓋周邊線(xiàn)路結(jié)構(gòu)130。配向?qū)?40例如為 連續(xù)狀薄膜，且其材料為聚酰亞胺（polyimide, ΡΙ)。
[0028] 形成配向?qū)?40的方法例如包括以下步驟。首先，將聚酰亞胺材料整面地涂布在 有源陣列120、周邊線(xiàn)路結(jié)構(gòu)130以及基板110上。接著，烘烤聚酰亞胺材料，以使其固化， 其中配向?qū)?40的烘烤溫度例如介于攝氏150度至攝氏250度之間，但不限于此。然后，以 一線(xiàn)性偏極化紫外光照射烘烤后的聚酰亞胺材料，以進(jìn)行配向并形成配向?qū)?40。配向?qū)?140的配向方向平行于線(xiàn)性偏極化紫外光的偏極化方向。在本實(shí)施例中，線(xiàn)性偏極化紫外光 例如是正向入射基板110,且線(xiàn)性偏極化紫外光的偏極化方向平行于通電后像素電極與共 用電極之間所產(chǎn)生的水平電場(chǎng)。
[0029] 請(qǐng)參照?qǐng)D1C，于配向?qū)?40上形成保護(hù)層150。如此，即初步完成有源陣列基板 AR。有源陣列基板AR包括基板110、有源陣列120、周邊線(xiàn)路結(jié)構(gòu)130、配向?qū)?40以及保護(hù) 層150,其中有源陣列120設(shè)置在基板110上，周邊線(xiàn)路結(jié)構(gòu)130設(shè)置在基板110上有源陣 列120以外的區(qū)域（即周邊區(qū)A2)，配向?qū)?40覆蓋有源陣列120、周邊線(xiàn)路結(jié)構(gòu)130以及 基板110。保護(hù)層150設(shè)置在配向?qū)?40上，其中保護(hù)層150全面覆蓋配向?qū)?40。如圖1C 所示地，保護(hù)層150直接設(shè)置在配向?qū)?40上，且保護(hù)層150的側(cè)壁與配向?qū)?40的側(cè)壁例 如是相互切齊，但不限于此。在另一實(shí)施例中，保護(hù)層150的面積也可能略大于或略小于配 向?qū)?40的面積。
[0030] 保護(hù)層150的材料可包括光反應(yīng)型材料或熱反應(yīng)型材料。所述光反應(yīng)型材料可以 是光反應(yīng)型異向性液晶或光反應(yīng)型均向性高分子材料。舉例而言，光反應(yīng)型材料選自式（1) 至式（6)所組成的群組 ：
[0031]
[0032]

[0033] 其中l(wèi)、m及η分別為大于或等于1的整數(shù)，且X為選自式（7)以及式⑶所組成 的群組，而Υ為選自式（9)至式（11)所組成的群組 ：
[0034]
[0035] 其中Α為碳數(shù)大于0的烷基、鹵烷基或氧烷基，且Α為直鏈型或支鏈型，R1至R11 各自選自由氫、鹵素、甲基、氰基以及亞克力基所組成的群組。
[0036] 當(dāng)保護(hù)層150的材料為光反應(yīng)型材料時(shí)，形成保護(hù)層150的方法例如包括以下步 驟。首先，將光反應(yīng)型材料整面地涂布在配向?qū)?40上。接著，烘烤光反應(yīng)型材料，其中保 護(hù)層150的烘烤溫度例如介于攝氏50度至攝氏150度之間，但不限于此。然后，進(jìn)行紫外 光固化制程。以一紫外光照射烘烤后的光反應(yīng)型材料，以形成保護(hù)層150。此處的紫外光可 以不是線(xiàn)性偏極化光，且其波長(zhǎng)例如介于254nm至400nm之間。此外，形成保護(hù)層150的紫 外光的波長(zhǎng)可不同于用以形成配向?qū)?40的線(xiàn)性偏極化紫外光的波長(zhǎng)。
[0037] 通過(guò)紫外光固化制程，可確保光反應(yīng)型材料的感光官能基能夠反應(yīng)完全。此外，由 于保護(hù)層150與配向?qū)?40的表層會(huì)產(chǎn)生鏈結(jié)，因此可進(jìn)一步穩(wěn)固配向?qū)?40中未反應(yīng)完 全或未穩(wěn)定的側(cè)鏈，使其配向方向固定而不再受到后續(xù)制程環(huán)境的干擾。
[0038] 另一提的是，聚酰亞胺是通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)達(dá)到配向效果，其在反應(yīng)完成后會(huì)產(chǎn)生 許多不必要的離子,而這些離子會(huì)造成嚴(yán)重的圖像殘留（image sticking)問(wèn)題。有鑒于上 述，本實(shí)施例可通過(guò)選定適當(dāng)?shù)牟牧希ň哂羞m當(dāng)?shù)墓倌芑?，以降低上述不必要的離子的生 成，從而改善圖像殘留問(wèn)題。
[0039] 另外，所述熱反應(yīng)型材料可以是熱反應(yīng)型異向性液晶或熱反應(yīng)型均向性高分子材 料。舉例而言，熱反應(yīng)型材料選自式（12)至式（14)所組成的群組：
[0040]
[0041] 其中α為選