助附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施例。其中:
[0031]圖1表示與底板和一些探測(cè)模件處于中間裝配狀態(tài)下的X射線探測(cè)器透視圖；
[0032]圖2表示按圖1加蓋的X射線探測(cè)器；
[0033]圖3表示按圖1的探測(cè)模件前方透視圖；以及
[0034]圖4按圖3的探測(cè)模件后方透視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0035]按圖1的X射線探測(cè)器2尤其規(guī)定用于這里沒有詳細(xì)表示的計(jì)算機(jī)X射線層析攝影儀。X射線探測(cè)器2包括底板4，它有上側(cè)6，一些探測(cè)模件8固定在上側(cè)6上。圖1所示的X射線探測(cè)器2設(shè)計(jì)用于承接二十四個(gè)探測(cè)模件8，不過為了看得更加清楚，圖中只表示三個(gè)探測(cè)模件8。作為替代方式，設(shè)置數(shù)量不同的探測(cè)模件8。探測(cè)模件8分別包括一個(gè)模件支架10和一些探測(cè)區(qū)12。探測(cè)區(qū)12安置在各自探測(cè)模件8的前側(cè)14。在這里表示的實(shí)施例中，每個(gè)探測(cè)模件8包括兩個(gè)探測(cè)區(qū)12，它們共同構(gòu)成一個(gè)探測(cè)面16。
[0036]探測(cè)區(qū)12并因而還有探測(cè)面16總是面對(duì)r方向R和在這里沒有表示的假想為點(diǎn)狀的X射線放射源的發(fā)射方向。下文中所有r方向統(tǒng)稱為r方向R。r方向R垂直于z方向Z。在這里和尤其也在下文中垂直指的是，兩個(gè)方向或兩個(gè)面或一個(gè)方向和一個(gè)面，彼此相交一個(gè)大約90°的角度。優(yōu)選地這一角度大于80°和小于100°。尤其是，每個(gè)探測(cè)面16以這種方式垂直于底板4，而底板4又垂直于z方向Z。此外，phi方向P垂直于z方向Z，其中phi方向P體現(xiàn)沿z方向Z延伸的軸線的周向。
[0037]模件支架10安裝在一個(gè)加工在底板4上側(cè)6上的凹穴18或也稱凹槽內(nèi)。凹穴18構(gòu)成一個(gè)固定平面20，它尤其設(shè)計(jì)為平行于底板4的上側(cè)6以及沿phi方向呈弧形延伸。在底板4內(nèi)遵循弧形徑跡加工一些孔22、24，在圖示的本實(shí)施例中它們排列成三個(gè)弧形排26,28ο靠外的兩排26在這里包括一些孔22，它們?cè)O(shè)計(jì)為定位元件，在中間的那一排28包括一些螺紋孔24，用于借助螺釘連裝裝置將模件支架10固定在底板4上。
[0038]此外，底板4為了固定在計(jì)算機(jī)X射線層析攝影儀上，尤其固定在計(jì)算機(jī)X射線層析攝影儀的轉(zhuǎn)環(huán)上，有另一些通孔30，在這里是八個(gè)?？煞謩e例如將一個(gè)螺釘穿過它旋入恰當(dāng)設(shè)置在計(jì)算機(jī)X射線層析攝影儀上的螺紋內(nèi)。此外，在底板4上并在背對(duì)探測(cè)模件8前側(cè)14的后側(cè)32，設(shè)置電子部件34、34'，例如用于評(píng)估借助探測(cè)區(qū)12產(chǎn)生的信號(hào)。
[0039]此外，為了容納蓋36在底板4上側(cè)6加工一個(gè)槽38，在本圖所示的實(shí)施例中，它環(huán)繞固定平面20和多個(gè)電子部件34。為此，槽38在這里設(shè)計(jì)為，部分區(qū)段沿phi方向P以及部分區(qū)段沿r方向R。換句話說:槽38封閉了一個(gè)環(huán)形扇段狀的面積。
[0040]蓋36覆蓋上側(cè)6的大部分，并在圖2中連同底板4被一起示出。蓋36尤其包括在這里連續(xù)的后壁40，它沿r方向R設(shè)置在探測(cè)面16的后方。因此后壁40收集尤其未被吸收的X射線。在本圖所示的實(shí)施例中，后壁40從底板4起沿z方向Z以及沿phi方向P延伸，并由此成弧形。此外，蓋36還包括兩個(gè)側(cè)壁42，它們分別從底板4出發(fā)沿z方向Z以及沿r方向R延伸。此外設(shè)有上罩44，它與側(cè)壁42和后壁40連接。上罩在這里有輪廓46，類似于槽38它部分區(qū)段是弧形，以及在這里尤其與沿phi方向P延伸的后壁40相匹配。
[0041]蓋36借助固定件48固定在底板4上并與其相結(jié)合封閉覆蓋區(qū)50，覆蓋區(qū)50還尤其以槽38為邊界。蓋36朝r方向R的反方向至少部分開口，也就是說，蓋36尤其沒有連續(xù)的前壁。在這里優(yōu)選地代之以安置這些探測(cè)模件8。有利地，蓋36與底板4導(dǎo)熱連接，由此尤其能有效引出由吸收的X射線所產(chǎn)生的熱量。
[0042]在本圖所示的實(shí)施例中，電子部件34、3f布置在后壁40前(電子部件34)和后壁40后(電子部件34')的區(qū)域內(nèi)。在后壁前，在這里認(rèn)定是后壁40面朝探測(cè)模件8的那一側(cè)，亦即沿r方向R在后壁40的前面；在后壁后，在這里認(rèn)定是相應(yīng)地背對(duì)探測(cè)模件8的那一側(cè)，亦即沿r方向R在后壁40的后面。
[0043]電子部件34、34'設(shè)置為扁平的，也就是說，它們沿z方向Z分別有一個(gè)盡可能小的高度H。在這里，探測(cè)面16設(shè)置為離底板有規(guī)定的距離Al，以及電子部件34、34'的這一高度H小于此距離Al。此外，電子部件34、3f主要沿r方向R和沿phi方向P延伸。由于這種小的高度H，尤其保證電子部件34、34'相對(duì)于X射線源只有小的橫截面，并由此遭受盡可能少量的X射線輻射。
[0044]電子部件34、3f在本圖所示的實(shí)施例中有印刷電路板52，它有邊緣輪廓54。在這里針對(duì)電子部件34邊緣輪廓54局部呈弧形延伸，并因而尤其與底板的形狀相配。
[0045]組合圖1和2表示，電子部件34、3f可以布置在后壁40的兩側(cè)。尤其是，沿r方向R設(shè)置在后壁40后方的電子部件34'，有利地通過后壁40防X射線輻射。
[0046]底板4的上側(cè)6基本上設(shè)計(jì)為平面，以及尤其沒有彎曲。這就是說，除附加的槽(例如槽38)和凹穴之外，在底板4上側(cè)6與下側(cè)56之間的距離A2在任何位置基本相同。由此尤其提供可能性，底板4可以用簡單的、尤其在任何部位厚度相同的板制造。然后可以借助簡單的銑削過程加工所有的槽和凹穴，而所有的孔(例如孔22、24)總是在一個(gè)平的，在這里可設(shè)計(jì)為上側(cè)6的表面上。由此使X射線探測(cè)器2的制造特別簡單。
[0047]然而底板4的上側(cè)6可以有一個(gè)至少部分弧形的邊界58。尤其在本圖所示的實(shí)施例中，底板4設(shè)計(jì)為類似于一個(gè)環(huán)段，以及恰當(dāng)?shù)赜邪伎?60，例如用于支承和/或定位在計(jì)算機(jī)X射線層析攝影儀的轉(zhuǎn)環(huán)上。不過按一種可能的替代設(shè)計(jì)，底板4例如設(shè)計(jì)為矩形。
[0048]圖3用前方透視圖表示探測(cè)模件8。探測(cè)模件8包括模件支架10以及一定數(shù)量的探測(cè)區(qū)12，在這里是兩個(gè)探測(cè)區(qū)12。所述探測(cè)區(qū)12分別包括一定數(shù)量按矩陣排列并形成一個(gè)探測(cè)面的探測(cè)元件62。
[0049]模件支架10包括底座64，它有支承面66，在裝配狀態(tài)支承面66面朝底板4的上偵U。從底座64出發(fā)，沿z方向Z并垂直于底板4，延伸一個(gè)有壁前側(cè)70的壁68，探測(cè)區(qū)12上下疊置地安裝在壁前側(cè)70上。壁68和底座64在這里基本上互相成L形布置。在壁68的前面，在底座64內(nèi)加工一個(gè)設(shè)計(jì)為定位孔的定位元件72，在裝配狀態(tài)它與底板4中的孔22之一對(duì)齊。
[0050]沿壁68，在后側(cè)延伸兩個(gè)支柱74，它們與底座64連接，這在圖4中表示得非常清楚。在那里還可看出，兩個(gè)支柱74與底座68構(gòu)成U形型面，在這里它借助虛線U表示。在本圖所示的實(shí)施例中，支柱74在側(cè)視圖中基本設(shè)計(jì)為三角形，也就是說，它隨著離底座64的距離增大而收縮。
[0051]此外，在底座64內(nèi)還加工有一個(gè)固定孔76，用于固定模件支架10。固定孔76在這里是通孔，并為底板4內(nèi)中排28孔24中的一個(gè)孔24(亦即螺紋孔)所配設(shè)。為了制成一種特別穩(wěn)固的連接，底座64在固定孔76所在的區(qū)域設(shè)計(jì)成較厚，換句話說:設(shè)計(jì)得較高。此外，圖4還表示，在底座64內(nèi)加工另一個(gè)構(gòu)成定位孔的定位元件72。
[0052]由圖4還可清楚看出，在模件支架10的壁68內(nèi)加工一些孔78，用于穿過探測(cè)區(qū)12的接線端80。此外，在本圖所示的實(shí)施例中，孔80還用于安置設(shè)置在探測(cè)區(qū)12后側(cè)的電子器件82，尤其由此使之不貼靠在壁68上。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于計(jì)算機(jī)X射線層析攝影儀的X射線探測(cè)器(2)，它有底板(4)和多個(gè)探測(cè)模件(8)，所述多個(gè)探測(cè)模件在前側(cè)(14)各有至少一個(gè)探測(cè)區(qū)(12)，探測(cè)區(qū)(12)有面對(duì)r方向(R)的探測(cè)面(16)，并且所述多個(gè)探測(cè)模件分別包括一個(gè)固定在底板(4)上的模件支架(10)，其特征為:模件支架(10)為了固定有面朝底板(4)的支承面(66)，該支承面垂直于探測(cè)面(16) ο2.按照權(quán)利要求1所述的X射線探測(cè)器(2)，其特征為，在模件支架(10)內(nèi)加工至少一個(gè)孔(78)，用于穿過探測(cè)區(qū)(12)的接線端(80) ο3.按照權(quán)利要求1或2所述的X射線探測(cè)器(2)，其特征為，模件支架(10)有一些支柱(74)ο4.按照權(quán)利要求3所述的X射線探測(cè)器(2)，其特征為，模件支架(10)有兩個(gè)支柱(74)，它們與支承面(66)共同構(gòu)成U形型面(U)。5.按照權(quán)利要求1至4之一所述的X射線探測(cè)器(2)，其特征為，模件支架(10)成弧形排列在底板(4)上。6.按照權(quán)利要求5所述的X射線探測(cè)器(2)，其特征為，模件支架(10)借助螺釘連接裝置固定在底板(4)上。7.按照權(quán)利要求1至6之一所述的X射線探測(cè)器(2)，其特征為，底板(4)為了固定有一些通孔(30)。8.按照權(quán)利要求1至7之一所述的X射線探測(cè)器(2)，其特征為，在底板⑷和在模件支架(10)上分別設(shè)置一些定位元件(72)。9.按照權(quán)利要求8所述的X射線探測(cè)器(2)，其特征為，定位元件(72)是孔，其中，模件支架(10)的至少一個(gè)這種孔與底板(4)的一個(gè)孔(22)對(duì)齊。10.按照權(quán)利要求1至9之一所述的X射線探測(cè)器(2)，其特征為，它有一個(gè)遮蓋覆蓋區(qū)(50)的蓋(36)，該蓋(36)具有安置在X射線探測(cè)器(2)后側(cè)的后壁(40)。11.按照權(quán)利要求10所述的X射線探測(cè)器(2)，其特征為，它有一些設(shè)置在底板(4)上和覆蓋區(qū)(36)內(nèi)部和/或外部的電子部件(34、34')。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種計(jì)算機(jī)X射線層析攝影儀的X射線探測(cè)器(2)，它有底板(4)和多個(gè)探測(cè)模件(8)，所述多個(gè)探測(cè)模件(8)在前側(cè)(14)各有至少一個(gè)探測(cè)區(qū)(12)，探測(cè)區(qū)(12)有面對(duì)r方向(R)的探測(cè)面(16)，以及所述多個(gè)探測(cè)模件(8)分別包括一個(gè)固定在底板(4)上的模件支架(10)，其特征在于，模件支架(10)為了固定具有面朝底板(4)的且垂直于探測(cè)面(16)的支承面(66)。
【IPC分類】G01T7/00, G01T1/29
【公開號(hào)】CN104950324
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510140820
【發(fā)明人】C.波安
【申請(qǐng)人】西門子公司
【公開日】2015年9月30日
【申請(qǐng)日】2015年3月27日
【公告號(hào)】DE102014205735A1, US20150276951