本發(fā)明涉及服裝面料領(lǐng)域，特別是涉及一種抗輻射鉤花面料。
背景技術(shù)：
面料是用來制作服裝的材料，它不僅可以詮釋服裝的風(fēng)格和特性，而且直接左右著服裝的色彩、造型的表現(xiàn)效果。
隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展和人們活動(dòng)領(lǐng)域的擴(kuò)大，人們對(duì)服裝面料的品質(zhì)及性能要求越來越高?，F(xiàn)在市場上的鉤花面料表面易出現(xiàn)勾絲現(xiàn)象，牢固性差，同時(shí)現(xiàn)有的鉤花面料一般不具有抗輻射功能。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種抗輻射鉤花面料，能夠解決現(xiàn)有鉤花面料存在的缺陷。
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種抗輻射鉤花面料，包括面料本體、由抗輻射紗線鉤織在所述面料本體表面的鉤花層、和壓合在所述鉤花層外表面的透明tpu防護(hù)膜，所述抗輻射紗線是由銀纖維、抗菌纖維和粘膠纖維混紡制成的紗線，按照質(zhì)量百分比計(jì)算，所述銀纖維占所述抗輻射紗線的質(zhì)量比例為50%-55%、所述抗菌纖維占所述抗輻射紗線的質(zhì)量比例為15%-20%、所述粘膠纖維占所述抗輻射紗線的質(zhì)量比例為30%-35%。
在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述tpu防護(hù)膜的厚度為0.01-0.05mm。
在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述面料本體為棉布、麻布或雪紡布。
在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述抗菌纖維采用抗菌竹炭纖維。
本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明在面料鉤花層外表面壓合有tpu防護(hù)膜，能有效避免鉤花層拉絲、勾絲現(xiàn)象，同時(shí)該鉤花層采用配比合理的抗輻射紗線鉤織而成，使其具有優(yōu)異的抗輻射性能。
具體實(shí)施方式
下面對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
本發(fā)明實(shí)施例包括：
實(shí)施例一：
一種抗輻射鉤花面料，包括面料本體、由抗輻射紗線鉤織在所述面料本體表面的鉤花層、和壓合在所述鉤花層外表面的透明tpu防護(hù)膜，所述抗輻射紗線是由銀纖維、抗菌竹炭纖維和粘膠纖維混紡制成的紗線，按照質(zhì)量百分比計(jì)算，所述銀纖維占所述抗輻射紗線的質(zhì)量比例為50%、所述抗菌竹炭纖維占所述抗輻射紗線的質(zhì)量比例為20%、所述粘膠纖維占所述抗輻射紗線的質(zhì)量比例為30%。
其中，所述tpu防護(hù)膜的厚度為0.01mm；所述面料本體為棉布。
實(shí)施例二：
一種抗輻射鉤花面料，包括面料本體、由抗輻射紗線鉤織在所述面料本體表面的鉤花層、和壓合在所述鉤花層外表面的透明tpu防護(hù)膜，所述抗輻射紗線是由銀纖維、抗菌竹炭纖維和粘膠纖維混紡制成的紗線，按照質(zhì)量百分比計(jì)算，所述銀纖維占所述抗輻射紗線的質(zhì)量比例為52%、所述抗菌竹炭纖維占所述抗輻射紗線的質(zhì)量比例為18%、所述粘膠纖維占所述抗輻射紗線的質(zhì)量比例為30%。
其中，所述tpu防護(hù)膜的厚度為0.03mm；所述面料本體為麻布。
實(shí)施例三：
一種抗輻射鉤花面料，包括面料本體、由抗輻射紗線鉤織在所述面料本體表面的鉤花層、和壓合在所述鉤花層外表面的透明tpu防護(hù)膜，所述抗輻射紗線是由銀纖維、抗菌竹炭纖維和粘膠纖維混紡制成的紗線，按照質(zhì)量百分比計(jì)算，所述銀纖維占所述抗輻射紗線的質(zhì)量比例為55%、所述抗菌竹炭纖維占所述抗輻射紗線的質(zhì)量比例為15%、所述粘膠纖維占所述抗輻射紗線的質(zhì)量比例為30%。
其中，所述tpu防護(hù)膜的厚度為0.05mm；所述面料本體為雪紡布。
本發(fā)明揭示了一種抗輻射鉤花面料，采用多層復(fù)合結(jié)構(gòu)，在面料鉤花層外表面壓合有tpu防護(hù)膜，能有效避免鉤花層拉絲、勾絲現(xiàn)象，同時(shí)該鉤花層采用配比合理的抗輻射紗線鉤織而成，使其具有優(yōu)異的抗輻射性能。
以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。